판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9314595

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 플라즈마 에칭 및 에칭 정밀도가 가능한 자동 에처/애셔입니다. 마이크로일렉트로닉스 업계에서 다층 칩 (multi-layer chip) 이나 양자 컴퓨팅 (quantum computing) 부품과 같은 마이크로 스케일 구성 요소와 장치를 만드는 데 사용됩니다. ONTRAK Kiyo 45는 이중 영역 진공 챔버로 설계되었으며 완벽한 엔드 포인트 탐지가 가능합니다. 인시 투 웨이퍼 (in-situ wafer) 온도 메커니즘이 장착되어 에칭 프로세스에 정확하고 균일 한 온도를 제공합니다. LAM RESEARCH Kiyo 45는 또한 원격으로 조절 가능한 반응 챔버를 특징으로하며, 이는 에칭 매개변수를 제어하는 유연성을 제공합니다. 챔버의 벽은 고급 합금으로 만들어져 있으며, 부식에 강하고, 거친 에칭 (etching) 과정을 견딜 수 있습니다. 또한, 에처에는 특허를 획득 한 무동기 디자인이 포함 된 터보 펌프 (turbo pump) 및 샤프트 구동 게이트 밸브가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 증착률 (rate of deposition) 과 스퍼터링 (sputtering) 을 제어하고 웨이퍼 처리에 필요한 시간을 최소화할 수 있습니다. 키요 45 (Kiyo 45) 는 직관적인 인터페이스를 갖춘 고급 2 채널 전자 컨트롤러로 구동되며, 사용자에게 포괄적인 프로세스 제어를 제공합니다. 종점 판별 (end point determination), 플라즈마 매개변수 자가 진단 (self-diagnosis of plasma parameters), 다양한 가스 및 소스 전달 제어 등 다양한 진단 기능이 장착되어 있습니다. 또한 LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 프로세스 시뮬레이션을 특징으로하여 사용자가 시작하기 전에 프로세스 결과를 예측할 수 있습니다. ONTRAK Kiyo 45는 작은 웨이퍼, 직경 최대 8 인치의 대형 웨이퍼 등 여러 웨이퍼 크기를 수용 할 수 있습니다. 통합 로드 락 챔버와 최대 2 개의 8 인치 웨이퍼를 동시에 처리 할 수 있습니다. 에처는 또한 멀티 슬라이스 에칭 (multi-slice etching) 기능을 가지고 있으므로 복잡한 구조를 더 효율적으로 생산할 수 있습니다. 요약하면, LAM RESEARCH Kiyo 45는 고급 마이크로 스케일 장치의 정확한 에칭 및 증착을위한 고급 기능을 갖춘 자동 에처/애셔입니다. 직관적인 인터페이스를 갖춘 이중 구역 진공 챔버, 현장 내 웨이퍼 온도 메커니즘, 조절 가능한 반응 챔버 및 전자 컨트롤러가 있습니다. 키요 45 (Kiyo 45) 는 또한 여러 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있으며 프로세스 결과를 정확하게 예측하기 위해 프로세스 시뮬레이션을 갖추고 있습니다.