판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9314592

LAMLAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 반도체 처리에 사용되는 에처/애셔 장비입니다. 에칭 (etching), 애싱 (ashing) 및 포토 esist 제거를 할 수 있도록 설계된 다재다능한 시스템입니다. 이 장치는 3 개의 프로세싱 챔버 (processing chamber) 를 갖춘 경사 형 기계로, 각각 다양한 작업을 수행하는 데 사용할 수 있습니다. 머신에는 클린 베이 지원 도구, 습식 프로세스 모듈, 건식 프로세스 모듈이 있습니다. 클린 베이 지원 (Clean Bay Support) 자산은 환경으로부터 오염되지 않고 웨이퍼를 처리하도록 설계되었습니다. 이것은 디온화 된 물, Class-100 공기 여과, 이온 임플란터 및 반도체 로봇을 사용하여 먼지 입자를 생성하지 않고 챔버를 통해 웨이퍼를 빠르게 이동합니다. ONTRAK 키요 45 (Kiyo 45) 모델의 습식 공정 모듈은 다양한 습식 에칭 및 습식 애싱 절차를 수행 할 수 있습니다. 이것은 고속 펌프, 고압 전달 장비, 지상 결함 보호 시스템, 밸브 클러스터 (Valve Cluster) 를 포함하여 가능합니다. LAM RESEARCH Kiyo 45의 드라이 프로세스 모듈은 멀티 에칭, 애싱 및 청소 절차를 수행하도록 설계되었습니다. 여기에는 3 개의 독립적 인 히터가 포함되며, 각 히터는 다른 프로세스에 대해 다른 온도를 유지하는 데 사용될 수 있습니다. 이 장치에는 챔버 간 웨이퍼를 빠르게 전송하기위한 고속 로봇도 포함되어 있습니다. Kiyo 45 기계는 사용하기 쉽고 최소한의 유지 보수가 필요합니다. 내구성과 신뢰성을 위해 고급 스테인리스 스틸 재료로 제작되었습니다. 이 도구의 컨트롤과 인터페이스는 직관적이며, 프로세스를 최대한 효율적으로 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 이 에셋에는 광범위한 처리 매개변수 (processing parameter) 도 포함되어 있으며, 최대 결과를 위해 미세하게 조정할 수 있습니다. 모든 산업 표준 및 안전 지침을 충족하도록 설계되었습니다. 전반적으로 LAMLAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 반도체 처리를 위해 설계된 강력한 에처/애셔 모델입니다. 효율적이고 다양한 장비로, 품질이 저하되지 않고 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 절차를 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 미세하게 조절 가능한 매개변수와 직관적인 제어 시스템 (Control System) 으로 매우 높은 정밀도 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장치는 안정적이고 효율적인 etcher/asher 기계를 찾는 반도체 제조업체에 적합한 선택입니다.