판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9298318

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 반도체 산업의 응용 분야를 위해 설계된 에처/애셔입니다. 반도체 소자 제조를 위해 실리콘, 구리, 알루미늄을 포함한 다양한 소재의 박막 (thin film) 에 적합합니다. ONTRAK Kiyo 45는 시간당 최대 4,500 개의 웨이퍼 (wafer) 의 대용량을 갖추고 있으며, 시장에서 가장 효율적인 에처 중 하나입니다. 이 장비는 뛰어난 식각 속도 균일성을 제공하는 초저압 기술을 사용합니다. 에치 레이트를 상하로 제어하여 수직 프로파일이 생성되며, LAM RESEARCH Kiyo 45의 in-situ RIE 시스템을 사용하면 여러 레이어를 동시에 에치하여 주기 시간을 크게 줄일 수 있습니다. 키요 45 (Kiyo 45) 는 또한 특허를받은 CPET (Constant Pressure Etching Technology) 을 사용하여 단위 변경에 관계없이 일관된 에치 속도를 보장하여 시장을 선도하는 단계 적용 범위와 기능 프로파일 제어에서 탁월한 균일성을 제공합니다. 또한 LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45에는 고해상도 이미지 뷰어뿐만 아니라 고해상도 광학 방출 분광기 (OES) 가 장착되어 있습니다. OES 툴은 실시간 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 제공하여 사용자가 etching 프로세스의 진행 상황을 모니터링할 수 있도록 합니다. 또한, ONTRAK Kiyo 45에는 가스 흐름 제어 에셋 (gas flow control asset) 이 있으며, 이를 통해 사용자는 에칭 프로세스의 매개변수를 정확하게 제어하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. LAM RESEARCH Kiyo 45는 또한 공랭식 챔버 구조를 갖추고 있으며, 안전하고 깨끗하며 신뢰할 수 있습니다. 이 모델은 AMS (Advanced Materials Equipment) 로 구성된 업계 최고의 성능 요구 사항을 충족합니다. 키요 45 (Kiyo 45) 는 원격 운영 시스템, 자동 안전 기능, 프로그래밍 가능한 프로세스 매개변수 등 다양한 고급 안전 기능을 갖추고 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 반도체 업계에서 가장 까다로운 에칭 및 애싱 요구 사항을 충족하도록 설계된 고급 에처/애셔 (etcher/asher) 입니다. 고급 AIR COOLED 구성, 초저압 기술, 고해상도 이미지 보기 기능으로 인해 모든 반도체 제조 시설에서 필수적인 툴이 됩니다.