판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45 #9399261

LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Kiyo45는 반도체 웨이퍼 생산을위한 고속, 고효율 플라즈마 에칭/애싱 장비입니다. "트랜지스터 '는 밀도 가 높고 직접 무늬 가 있는" 트랜지스터' 를 포함 하여 가장 복잡 한 구조 까지도 깨끗 하고 정확 하게 처리 할 수 있다. Kiyo45는 이중 회전 소스, 시간당 최대 200개의 처리량, 멀티 런 온도 제어, 향상된 웨이퍼 사전 정렬 정확도, 기존 운영 라인에 대한 간편하고 완전 자동화 시스템 통합 등 고급 구성 요소를 갖추고 있습니다. Kiyo45는 이중 소스 플라즈마 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스를 사용하여 고급 기능과 정확도를 가진 반도체 웨이퍼를 생산합니다. 이 과정은 Kiyo45에 최대 200 개의 웨이퍼로 된 캔들 스틱 스택을 로드함으로써 시작됩니다. 이 장치의 이중 회전 원 (dual rotating source) 은 재생성과 정확성을 위해 정확하게 제어되는 고 에너지 플라즈마를 생성합니다. 이 "플라즈마 '는 임베디드' 된 정전기 방패 로" 웨이퍼 '를 통과 하여 원하는 물질 을 제거 한다. 또한, Kiyo45의 온도 조절 머신 (temperature control machine) 을 사용하여 에치 속도와 선택성을 정확하게 조정할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 최적의 결과를 위해 프로세스를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 또한 Kiyo45는 사전 정렬 정확도를 개선하도록 설계되었습니다. 내장 이미지 인식 기술은 Kiyo45 (Kiyo45) 에서 개별 웨이퍼를 정확하게 식별하고 에칭 전에 정렬하는 데 사용됩니다. 이 고급 도구는 수동 정렬 (manual alignation) 의 필요성을 제거하므로 잘못된 정렬 오류를 줄일 수 있습니다. Kiyo45는 또한 빠른 에치 후 무결성 검사를 통해 모든 처리 된 웨이퍼의 품질을 보장합니다. ONTRAK 2300 Kiyo45는 고급 에칭/애싱 프로세스에 이상적인 선택입니다. 최첨단 구성요소와 고급 기능으로, 매우 정확한 반도체 웨이퍼 (wafer) 를 쉽고 효율적으로 만들 수 있습니다. 자산의 이중 회전 소스 (dual rotary source) 및 온도 조절 모델을 통해 사용자는 에칭 프로세스를 정확하게 제어하여 타의 추종을 불허합니다. 또한 자동화된 wafer 사전 정렬 및 etch 후 검사 프로세스는 모든 Off-the-line 제품에 대한 품질 보증을 보장합니다. 결론적으로 Kiyo45는 모든 에칭/애싱 프로세스에 완벽한 선택입니다.