판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Exelan Flex #9283189

LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Exelan Flex
ID: 9283189
Etchers.
LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Exelan Flex는 고해상도, 고성능 결과를 제공하도록 설계된 고급 에치/애쉬 반도체 처리 장비입니다. 이 시스템은 Flash/FTL/eMMC 메모리의 작은 플레이크에서 5 인치 또는 6 인치 웨이퍼까지 다양한 기판을 처리 할 수있는 고급, 다양한 기술을 갖추고 있습니다. 탁월한 무관용 정렬 기능으로 탁월한 에치 (etch) 및 포토 애쉬 (photo-ash) 기능을 제공하기 위해 여러 가지 고급 기술을 통합했습니다. ONTRAK 2300 Exelan Flex에는 다른 목적으로 사용되는 2 개의 챔버가 있습니다. 상공 챔버 (upper chamber) 는 고전적인 에치 챔버이며 프로세스 균일성과 성능을 최대화하도록 설계되었습니다. 연속파, RF- 유도, 다운 스트림 플라즈마 프로세싱, 저전력 및 고전력 유도 결합 플라즈마 소스를 사용합니다. 하방은 일관되고 균일 한 결과로 125mm 웨이퍼의 포토 애쉬 처리를 용이하게합니다. LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex는 고급 자동화, 내장 오븐 및 ETP (Extended Time Program) 모드 옵션으로 인해 사용하기 쉽고 프로그래밍이 용이합니다. ETP 기능을 통해 사용자는 순차적으로 실행되는 일련의 프로세스를 프로그래밍하고, 시간을 절약하고, 결과를 향상시킬 수 있습니다. 또한 특허받은 MAC (Multi-tool Auto-clamp) 머신이 있습니다. 이 머신은 에치 프로세스를 웨이퍼의 로드 및 형상으로 자동 구성하여 최적의 결과 및 사이클 시간을 보장합니다. 2300 Exelan Flex는 안정적이고 매우 다양하며 뛰어난 성능과 결과를 제공합니다. 플라즈마 가스, 견인 시드 존재 (tow-point seed presence) 및 두께 측정에 대한 현장 모니터링을 포함하여 여러 프로세스 모니터링 기능이 장착되어 있습니다. 또한 고속 에칭을위한 플래시 사이클 알고리즘 (flash cycle algorithm), 정확한 가스 흐름 제어 (gas flow control) 및 정확하고 반복 가능한 결과를 보장하는 온도 조절 도구도 포함됩니다. LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Exelan Flex는 Flash/FTL/eMMC 메모리 또는 최대 125mm 크기의 기타 기판을 생산하는 데 이상적인 안정적이고 적응력이 뛰어난 도구입니다. 고급 기술, 자동화 및 성능 중심 설계 덕분에 ONTRAK 2300 Exelan Flex는 높은 수율과 반복 기능을 갖춘 뛰어난 성능을 제공합니다.
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