판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #9301496

LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extreme은 독점 프로세스 제어 알고리즘으로 설계된 etcher/asher로, 고급 메모리 장치에 최적의 etch/ash 성능을 제공합니다. 이 장비는 최신 포토 마스크 세대와 호환되며 실리콘, 저K 유전체 및 III-V 재료를 포함한 재료를 처리 할 수 있습니다. NOVELLUS Vector Extreme은 에치/애쉬 프로세스를 식별하고 특성화하기위한 새로운 분석기 응용 프로그램을 갖추고 있습니다. 여기에는 특허를 획득한 Analyzer 창이 포함되어 있어 최적의 etch/ash 매개 변수를 정확하게 확인할 수 있습니다. 또한 플라즈마 성능을 모니터링하고 가스 유량을 조정하여 에치/애쉬 (etch/ash) 프로세스를 최적화하는 고급 액티브 가스 제어 시스템 (Active Gas Control System) 도 포함되어 있습니다. LAM RESEARCH VECTOR EXTREME은 플라즈마 보조 에칭 (plasma assisted etching) 을 통해 작동하며, 이는 화학 반응성 가스 혼합물을 사용하여 재료 층을 탈환합니다. 최첨단 플라즈마 소스는 매끄럽고 일관된 에치/애쉬 프로세스를 보장하기 위해 고출력 플라즈마를 생성합니다. 빠른 주기 시간 (rapid cycle time) 을 통해 적은 시간에 대용량 생산을 허용하는 반면, low-k 리플로우 기술은 열 팽창 및 수축으로 인한 최소한의 손상으로 최고의 에치/애쉬 성능을 보장합니다. LAM RESEARCH Vector Extreme은 또한 새로운 Predictive Performance Unit (예측 성능 단위) 기술을 통해 사용자가 원하는 패턴을 입력하고 프로세싱 전에 에칭 및 애싱 결과를 정확하게 예측할 수 있습니다. 이 기계는 과거의 에치/애쉬 (etch/ash) 단계에서 더 나은 성능을 위해 프로세스를 세밀하게 조정하는 방법을 배웁니다. LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREME은 최대 처리 속도와 정확도를 위해 설계되었습니다. 대규모 프로세싱 챔버 (processing chamber) 가 특징이며, 여러 웨이퍼 배치를 동시에 에칭하고 재싱할 수 있습니다. 또한 다른 툴에 연결하여 이 툴의 처리량 (throughput) 과 활용도 (utilization) 를 높일 수도 있습니다. Vector Extreme은 완전히 자동화되었으며 통합 보안 및 안전 시스템을 갖추고 있습니다. 원격 모니터링, 경고 및 원격 진단을 지원합니다. 또한 소프트웨어 수정 (Software Fix) 을 통해 자동으로 업데이트하여 평생 동안 최고 수준의 성능을 보장할 수 있습니다.