판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #293625918

LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express는 낮은 TCO (소유 비용) 로 높은 처리량, 높은 제품 품질 및 반복 가능한 프로세스 성능을 제공하도록 설계된 완전 자동화된 Etcher/Asher입니다. NOVELLUS Vector Express (Vector Express) 는 견고하고 신뢰할 수 있는 설계뿐만 아니라 모듈식 확장 가능한 아키텍처보다 뛰어난 성능을 제공합니다. LAM RESEARCH Vector Express는 화학 기계 연마 (CMP) 원리에 따라 작동합니다. 표면 물질을 제거하는 데 사용되는 기계적 힘과 나머지 노출 된 물질을 용해하는 데 사용되는 화학 작용의 조합. 이를 통해 벡터 익스프레스 (Vector Express) 는 알루미늄, 텅스텐 및 기타 금속의 필름을 포함하여 초정밀 수준에서 나노미터 깊이까지 가공소재에서 원치 않는 표면 재료를 효과적으로 제거 할 수 있습니다. LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express는 습식/건식 공정, 플라즈마 에칭, 저압 건식 에칭 등 다양한 고객 요구 사항을 충족하는 다양한 챔버 구성을 제공합니다. 각 구성에는 챔버 재검증 (chamber re-qualification) 이 필요 없이 신속하게 스왑 가능한 에칭 도구가 제공됩니다. 이 챔버에는 종점 탐지, 챔버 (chamber) 평가, 개별 공구 프로세스와 같은 자동화된 기계적 기능이 장착되어 있어 직관적이고 효율적입니다. 또한 NOVELLUS Vector Express (Vector Express) 는 모든 웨이퍼의 진행 상황을 자동으로 추적하여 고객의 에칭/포부 (etching/aspiration) 작업을 실시간으로 파악하는 통합 생산 관리 장비를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 또한 레시피 (recipe) 데이터를 저장 및 회수하는 방법을 제공하여 운영 프로세스 전반에 걸쳐 일관되고 예측 가능한 결과를 보장합니다. LAM RESEARCH Vector Express는 주변 입자를 제거 할 수있는 디지털화 된 대기 제어 장치 (Digitized Atmospheric Control Unit) 를 사용하여 단단한 입자 수 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 기계는 또한 공정 엔지니어가 오염을 최소화하기 위해 처리 조건을 정확하게 조정 할 수있는 직접 입자 측정 도구 (direct particle measurement tool) 와 함께 고급 입자 제어 솔루션 (advanced particle control solution) 을 제공합니다. 마지막으로, Vector Express는 다운타임을 줄이고 프로세스 수익률을 향상시키는 소프트웨어 솔루션 제품군을 제공합니다. 이러한 솔루션 (예: 사전 예방적 통합 진단/프로세스 모니터링 툴) 을 사용하면 효율성과 생산성을 극대화할 수 있고, 비용을 한 단계 절감할 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express는 탁월한 반복성과 낮은 소유 비용, 강력하고 안정적인 성능, 뛰어난 처리량을 제공하는 고급 etcher/asher입니다. Modular Architecture 및 통합 소프트웨어 솔루션을 통해 NOVELLUS Vector Express 는 프로세스 제어 및 모니터링을 용이하게 하며, 생산량을 높이고 다운타임을 최소화합니다.