판매용 중고 LAM RESEARCH Kiyo EX #293630220

LAM RESEARCH Kiyo EX는 높은 처리량, 낮은 유지 관리 및 비용 효율적인 재료 처리를 제공하도록 설계된 고급 etcher/asher 도구입니다. 독보적인 듀얼 챔버 (dual chamber) 아키텍처를 통해 배치 당 저렴한 에치 및 애셔 프로세스를 제공 할 수 있습니다. 이중 챔버 (Dual Chamber) 아키텍처를 통해 독립 가스 처리를 통해 동시 에치 및 애셔 기능 또는 독립 웨이퍼 처리를 가능하게합니다. 강력한 소스 레벨 펄싱 전자제품 (pulsing electronics) 과 프로세스 제어 소프트웨어 (process control software) 를 통해 공정 여백으로 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. Kiyo EX는 높은 처리량, 균일성 및 반복성을 제공합니다. 업계에서 3-4 웨이퍼/민의 높은 출력율과 최대 300mm의 처리 가능한 웨이퍼 크기는 타의 추종을 불허합니다. 이중 챔버 (Dual Chamber) 아키텍처는 웨이퍼 처리 (Wafer Handling) 및 매우 복잡한 프로세스를 위해 업스트림 (Upstream) 또는 다운스트림 (Downstream) 의 다른 도구와 팀을 이룰 수 있습니다. 소스 레벨 펄싱 전자 장치는 레시피 추적 성과 정확한 프로세스 시뮬레이션을 통해 정밀 프로세스 제어를 가능하게합니다. 컨트롤러는 Windows CE 운영 장비로 구동되며, 전용 그래픽 인터페이스를 통해 가스 유형 (gas type), 챔버 압력 (chamber pressure), 웨이퍼 속도 (wafer speed), 웨이퍼 온도 (wafer temperature) 및 기타 프로세스 변수를 포함한 다양한 레시피 매개변수를 제어할 수 있습니다. LAM RESEARCH Kiyo EX는 또한 높은 공정 안전을 보장하기 위해 능동적 퍼지 시스템 (active purge system) 과 같은 고급 안전 및 환경 보호 기능을 갖추고 있습니다. 고급 모니터링 및 제어 시스템은 자체 진단 장치 (Self Diagnostic Unit) 로, 기계 규정 준수를 보장하고 가스 처리를 위한 내장 안전 연동 스위치 (Built in Safety Interlock Switch) 를 검사합니다. 낮은 수준의 배기 흐름 제어 도구 (Flushing Control Tool) 와 결합된 활성 플러싱 (Active Flushing) 기능을 사용하면 LEF, passivation 등의 민감한 프로세스에 적합한 환경을 유지할 수 있습니다. 전체 Kiyo EX는 비용 효율적인 높은 처리량 에치 및 애셔 (asher) 프로세스를 위한 탁월한 기능을 제공합니다. 이중 챔버 (Dual Chamber) 아키텍처, 고급 프로세스 제어 및 안전 기능을 통해 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 어플리케이션을 선택할 수 있습니다. 광범위한 응용프로그램 (application) 을 통해 사실상 모든 산업용 또는 연구용 재료 처리 요구 사항을 충족할 수 있는 이상적인 도구입니다.