판매용 중고 LAM RESEARCH Inova #9315044

LAM RESEARCH Inova etcher/asher는 실리콘, 유리 및 금속 필름과 같은 다양한 기판을 평면 화하고 에칭하는 데 사용되는 고급 다중 구성 가능 에처/애셔 장비입니다. 이 시스템에는 최첨단 자동화 기능, 모든 필수 매개변수에 대한 컴퓨터 제어 기능, 그리고 효율적이고 독립적 인 작동을 보장하는 사용자 친화적 (user-friendly) 기능이 탑재되어 있습니다. Inova는 이온 빔 스퍼터링 (IBS), 리에 (RIE), 딥 실리콘 에칭 (DSE), 열 처리 (TP) 및 기타 에칭 작업과 같은 프로세스를 수행하도록 설계되었습니다. 다기능 챔버 (multi-functional chamber) 를 사용하면 필요한 경우 다양한 에칭 프로파일을 제공할 수 있으며, 따라서 웨이퍼 투 웨이퍼 (wafer-to-wafer) 균일성과 정밀도가 뛰어납니다. 또한, 이 기계는 정확하고 빠른 에칭 (etching) 을 위해 여러 기판 구성을 허용하여 필요한 특정 구성에 관계없이 매우 일관된 결과를 제공하도록 설계되었습니다. LAM RESEARCH Inova의 최첨단 소프트웨어를 사용하면 각 프로세스를 개별적으로 제어하여 중요한 매개변수 안정성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 고급 온도 조절 챔버 (tempering controlled chamber), 정확한 광 제어 (optical control), 통합 지원 및 유지 관리 자산 등을 제공하여 최적의 성능을 보장합니다. Inova의 챔버는 최적의 프로세스 반복 성과 안정성을 위해 설계되고 진공으로 밀봉됩니다. Etcher/Asher 에는 실시간 시각화 (Visualization) 및 데이터 획득 (Data Acquirition) 기능도 포함되어 있어 더 나은 프로세스 및 장비 결정을 내릴 수 있습니다. 통합된 광 엔드포인트 (Optical Endpointing) 모델을 사용하면 정확한 엔드포인트를 위해 깊이, 각도 및 임계 치수를 모니터링할 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 갖춘 LAM RESEARCH Inova의 프로그래밍 가능 패널 디스플레이는 etching 프로세스에 대한 사용자의 제어 및 유연성을 높이고, 빠른 설정, 화상 분석, 고급 데이터 관리 및 보안 기능을 제공합니다. 또한 개별 프로세스 조건과 기판 구성에 따라 최고의 에치 속도 (etch rate), 전력, 온도, 냉각 (cooling) 을 선택할 수 있습니다. Inova의 안전 기능에는 24/7 프로세스 활동 추적, 실시간 안전 경보 모니터링, 정전기 방전 방지 (Electrostatic Discharge Protection) 가 포함되어 운영 중 직원 안전을 보장합니다. 결론적으로, LAM RESEARCH Inova etcher/asher는 다양한 기판을 에칭하고 평면 화하기위한 고급, 다중 구성 가능한 시스템을 제공합니다. 프로세스 제어, 반복 기능, 안전 기능, 실시간 시각화 (Visualization) 및 데이터 수집 기능을 제공하여 최적의 성능, 정확성, 일관성을 보장합니다.