판매용 중고 LAM RESEARCH Inova #293610307

LAM RESEARCH Inova는 LAM RESEARCH Corporation이 개발 한 고급 에처/애셔입니다. 이 최첨단 에처/애셔는 높은 처리량, 정확성 및 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. Inova의 고급 기능에는 저열 예산 에치 프로파일 생성을위한 저전압 기판 에칭, 우수한 에치 선택성을 달성하기위한 고밀도 플라즈마 (HDP) 에치, 정밀 표면 수정을위한 총 웨이퍼 표면 커버리지 에치 (etch) 가 포함됩니다. LAM RESEARCH Inova (LAM RESEARCH Inova) 는 유연성을 염두에 두고 설계되어 다양한 응용 프로그램에 광범위한 etch 매개 변수를 설정할 수 있습니다. 여기에는 가스 믹스 비율 (gas mix ratios) 을 조정하고, 원하는 에치 성능을 얻기 위해 압력, 전력, 온도를 조정하는 기능이 포함됩니다. 또한, Inova의 고급 소프트웨어 제어 패키지 (Advanced Software Control Package) 를 사용하면 Etch 프로세스를 사용자 정의하고 최적화할 수 있으며, Etch 결과를 실시간으로 모니터링하고 분석할 수 있습니다. LAM RESEARCH Inova는 배치 및 단일 웨이퍼 처리를 모두 지원하며 330mm 웨이퍼 처리가 가능합니다. 에치 챔버 (etch chamber) 는 액체 질소를 사용하여 냉각되어 균일 한 에치 공정을 보장하고 균일 한 프로파일에 뛰어난 냉각을 제공합니다. 또한 안정적인 에치 환경을 유지하도록 설계된 자동 압력 제어 시스템 (Automatic Pressure Control System) 을 갖춘 압력 제어 에치 챔버 (Etch Chamber) 가 특징입니다. 또한, Inova에는 고급 원격 진단 시스템이 장착되어 있어, 향상된 원격 지원을 제공합니다. LAM RESEARCH Inova는 산화물 스트리핑, 포토 esist 에칭 및 하드 마스크 에칭과 같은 에칭 응용 분야에서 탁월한 성능을 제공합니다. 또한, 다양한 재료를 에치하고, 다른 필름 스택을 수용하도록 설계되었습니다. 이를 통해 Inova는 반도체, MEMS 및 MEMC 산업에서 다양한 에치 애플리케이션에 이상적인 선택이됩니다. 요약하면, LAM RESEARCH Inova는 빠르고 정확하며 신뢰할 수있는 에치 성능을 위해 설계된 고급 에치/애셔입니다. 이 정교한 에치 (etch) 도구는 완전히 밀폐되어 있으며, 제어된 에치 (etch) 환경을 제공하며, 사용자 지정 성능을 위한 고급 소프트웨어 제어 패키지가 장착되어 있습니다. 또한 배치 (Batch) 및 단일 웨이퍼 (Single Wafer) 처리를 지원하며 330mm 웨이퍼 처리가 가능하므로 다양한 업종의 애플리케이션을 에칭하는 데 적합합니다.