판매용 중고 LAM RESEARCH Inova #293610306

LAM RESEARCH Inova는 특정 에칭 및 애싱 프로세스를 위해 설계된 모듈 식 에칭/애싱 시스템입니다. 이 플랫폼은 모든 표준 에칭 (etching) 프로세스를 능가하고 최적의 정확도를 제공하는 매우 안정적인 플랫폼입니다. Inova는 최적의 에치 깊이, 향상된 해상도, 최소화된 오염을 제공하여 안정적이고 내구성이 뛰어난 성능을 제공합니다. LAM RESEARCH Inova에는 2 개의 200sccm 고성능 가스 소스 (He, Ar, N2 및 O2), 2 개의 쿼츠 반응 챔버 및 2 개의 자동 샘플 홀더가 장착되어 샘플 배치와 함께 완전한 유연성을 제공합니다. 또한, 화학적 용매의 필요성을 줄이는 데 도움이 되는 통합 된 고류 (high-flow) 물 욕조가있는 신뢰할 수있는 소스 클리닝 기능이 있습니다. 이노바 (Inova) 는 혁신적인 에치 예측 컨트롤러와 소프트웨어를 갖추고 있어 에칭 제어의 정확성과 유연성이 향상되었습니다. etch 예측 컨트롤러는 etch 속도를 지속적으로 모니터링하고 프로세스 매개변수를 보다 정밀하게 조정합니다. 이것은 더 높은 수확량을 허용하고 폐기물 및 기판 손상을 줄입니다. 표준 LAM RESEARCH Inova 모듈은 또한 멀티 트리거 시스템을 특징으로하며, 이를 통해 단일 사이클에서 최대 5 개의 독립 에치 프로세스를 활성화 할 수 있습니다. 따라서 처리량이 많은 복잡한 에칭/애싱 어플리케이션에 적합합니다. 옵션 CIBA (Collimated Ion Beam Assist) 기능을 사용하면 시간 크리티컬 SAP (Sample Analysis Processes) 에 대해 이온 플럭스를 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다. 고급 에칭 기술 외에도 이노바 (Inova) 는 광범위한 안전 기능을 제공합니다. 여기에는 음향 캐비닛, 이온 트랩, 이온 챔버 (ion chamber), 여러 흡입 및 배기 플랜지 (flange) 와 같은 기능이 포함되어 있어 작동 중에 시스템을 깨끗하고 안전하게 유지할 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH Inova는 에칭과 재싱에서 비교할 수없는 성능을 제공합니다. 고급 에치 (etch) 예측 컨트롤러와 다양한 안전 기능을 갖춘 이노바 (Inova) 를 통해 사용자는 특정한 요구를 충족할 수 있는 고유한 에칭/애싱 솔루션을 만들 수 있습니다.