판매용 중고 LAM RESEARCH FLEX DS #293642654

LAM RESEARCH FLEX DS는 반도체 제작의 요구를 충족하도록 설계된 다재다능하고 신뢰할 수있는 에처/애셔입니다. 이중 소스 (Dual Source) 기술을 사용하여 기판 전체에서 에치 프로파일과 증착의 균일성을 최적화합니다. 이 기술은 이온 폭격 (ion bombardment) 과 이온 흐름 (ion flow) 을 위해 두 개의 개별 소스를 사용하여 균일성과 고성능을 보장합니다. FLEX DS는 또한 독립적 인 CWD (Chuck-to-Wafer-Distance) 장비를 통해 에칭 프로세스 동안 프로세스 온도 및 압력에 대한 동적 제어를 지원합니다. 따라서 수동 조정이 필요 없으며 정확한 에칭 결과를 얻을 수 있습니다. 압력은 0.5 bar와 10 bar 사이에서 조정할 수 있으며 온도는 25C와 600C 사이에서 조정할 수 있습니다. 이 시스템은 화학 전달 장치를 사용하여 ICP (inductively coupled plasma) 에치 또는 애셔 화학의 농도를 정확하게 제어합니다. 이 정밀도를 사용하면 레이어 마스킹을 사용하지 않고 에치 (etch) 결과를 최적화할 수 있습니다. LAM RESEARCH FLEX DS (LAM RESEARCH FLEX DS) 에는 고급 진단 도구가 장착되어 있어 에치 (etch) 또는 애셔 (asher) 결과의 제어 및 최적화가 매우 정확합니다. 이러한 툴은 실시간 (Report-Time) 프로세스에 대한 포괄적인 보고서를 제공하여 프로세스를 최적화할 수 있습니다. 고급 냉각기는 긴 처리 시간에 높은 에치 속도를 가능하게합니다. 이 도구는 완전히 밀폐된 기본 장치를 사용하여 쉽게 유지 관리할 수 있도록 설계되었습니다. 이를 통해 모든 주요 자산 구성 요소에 신속하게 액세스할 수 있으며, 모델의 가동 시간과 효율성을 극대화할 수 있습니다. FLEX DS etcher/asher는 반도체 기반 재료 처리에 이상적입니다. 높은 정확성과 정확성을 필요로 하는 에칭 (etching) 또는 애싱 (ashing) 프로세스를 위한 안정적이고 경제적인 솔루션입니다. 사용자에게 친숙한 설계, 고효율 구성 요소, 고급 진단 툴을 통해 가장 까다로운 프로세스에 이상적인 툴이 됩니다.