판매용 중고 LAM RESEARCH Flex 45 #9378664

LAM RESEARCH Flex 45는 다양한 에칭 및 asper 응용 프로그램에 적합한 고급 에치/아스퍼입니다. 높은 처리량, 높은 선택성 에칭 및 asper 프로세스를 위해 설계된 단일 웨이퍼, 멀티 플레이트 장비입니다. 이 시스템에는 강력한 Resonant Helicon 및 Hot Wall ICP 에칭 소스가 장착되어 있어 정교한 에치 레시피에 대한 프로세스 매개 변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 고급 프로세스 제어 소프트웨어 (기판에서 기판까지) 를 제공합니다. 플렉스 45 (Flex 45) 는 최대 3mm 두께의 다양한 기판을 수용 할 수 있으며, 매우 높은 반복성과 정밀도로 에칭을 수행 할 수 있습니다. 최대 40 WPH (Wafers Per Hour) 의 처리량과 전체 프로세스 제어를 갖춘 복잡한 에치 레시피를 지원합니다. 이 장치는 또한 등방성 에칭, 이방성 에칭, 리스 에칭, 포토 esist 및 하드 마스크 에칭, 표면 기능 제어와 같은 프로세스를 지원합니다. 이 기계의 공명 나선형 소스는 조절 가능한 전력, 파형, 주파수를 제공하는 독점적 인 튜닝 기술로 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 etch 속도, 프로파일 모양, 프로세스 선택성, asper 균일성, 필름 사이드월 각도와 같은 프로세스 결과를 조정할 수 있습니다. 수반되는 ICP 소스는 에치 속도가 매우 낮고 등방성 에치 프로파일을 갖는 프로세스를 가능하게합니다. 공명 나선형 소스는 또한 낮고 균일 한 베이스 라인 에칭으로 매우 균일 한 에치 깊이를 허용합니다. 결과 피쳐 깊이 정밀도는 최대 ± 1% 입니다. LAM RESEARCH Flex 45 (LAM RESEARCH Flex 45) 는 다양한 기능과 옵션을 통해 사용자가 원하는 대로 도구를 조정할 수 있도록 지원합니다. Loadlock 에셋에는 압력 제어 모델이 장착되어 있으며, 대기 및 고진공 옵션이 있습니다. 이렇게 하면 기판 로딩 및 언로드가 빠르고 오염이 줄어듭니다. 이 장비에는 자동 기판 클램프를위한 전동 동력 제어 기능 (Motion Control Feature) 과 고급 에칭 프로세스를 위해 설계된 가변 강도 핫 월 에칭 소스 (Hot Wall Etching Source) 가 있습니다. 또한 Flex 45 는 직접 쓰기 (direct-write) 이미징 솔루션을 제공하여 사용자가 기판에 직접 쓸 수 있도록 합니다. 이 기능은 레티클 마스크 (Mask) 또는 전송 (Transfer) 의 필요성을 없애 변동성을 줄이며, 따라서 사용자가 정확도를 높이면서 귀중한 시간을 면도할 수 있습니다. 공정 제어 (Process Control) 를 위해 공압 밸브 (Pneumatic Valve) 와 소프트 밸브 (Soft Valve) 모두 호환되므로 프로세스 환경을 정확하게 제어할 수 있습니다. 마지막으로 LAM RESEARCH Flex 45는 완전 자동화된 디지털 프로파일링, 트랙백 및 비디오 모니터링 기능도 제공합니다. 고급 사이클론 제어, 혁신적인 크리티컬 차원 모니터링 장치 및 디지털 주문형 비디오 (video-on-demand) 옵션을 통해 사용자가 거의 실시간으로 에칭 진행 상황을 '시청' 할 수 있습니다. 최첨단 기능과 프로세스 제어 기능을 갖춘 플렉스 45 (Flex 45) 는 다양한 에칭 (etching) 및 애스퍼 (asper) 어플리케이션에 이상적인 에처 및 아스퍼입니다.