판매용 중고 LAM RESEARCH Flex 45 #9315040

LAM RESEARCH Flex 45는 고급 반도체 처리를 위해 설계된 에처/애셔입니다. 플라즈마 에칭, PRAM 에칭, 이온 밀링, 에치 백 등 다양한 에칭 및 애싱 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 박막 에칭 및 애싱 프로세스에 최적화되어 있습니다. Flex 45는 자동 도어 가스 캐비닛이 장착 된 다중 프로세스 장비입니다. 이 기능을 사용하면 광범위한 플라즈마 에칭 화학, 공정 가스, 압력 및 시스템 전력으로 멀티 챔버 (multi-chamber) 공정 최적화가 가능합니다. 이 장치는 단일 - 다중 다이 (single-multiple) 패키지와 함께 사용되므로 다양한 프로세스와 재료에 적합합니다. LAM RESEARCH Flex 45는 모듈식 챔버 설계를 통해 최대 4 챔버 구성의 유연성을 제공합니다. 또한 터보 펌프 (옵션) 가있는 UHV (Ultra-High Vacuum) Etch Chamber가 포함되어 심층 챔버 프로세스를 지원합니다. 또한, 다중 프로세스 작업을 위해 RF/DC 및 스텝 버스 모듈을 사용하여 챔버를 구성 할 수 있습니다. 이 기계는 에칭/애싱 프로세스를 제어하기위한 디지털 저전압 RF 전원 공급 장치를 갖추고 있습니다. 외부 또는 내부 웨이퍼 매핑을 기반으로 하여 안정적이고 정밀한 프로세스 반복성을 제공하도록 설계되었습니다. 이를 통해 반복 가능한 웨이퍼 바이 웨이퍼 수율 증가가 가능합니다. 또한 Flex 45에는 진공 펌핑 도구 (vacuum pumping tool) 와 플러싱 프로토콜 (flushing protocol) 이 장착되어 있어 깨끗하고 과도한 챔버를 유지할 수 있습니다. LAM RESEARCH Flex 45는 안정적인 작동과 내구성을 위해 설계되었습니다. 여기에는 에칭/어싱 (etching/ashing) 프로세스의 반복성과 수명을 보장하기 위한 고급 진단 기능과 내결함성 (fault tolerance) 측정이 포함됩니다. 또한 터치 스크린 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 운영자가 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스를 직접 제어할 수 있습니다. 이 기능은 정확한 제어를 통해 수율과 효율성을 높입니다. 결론적으로, Flex 45는 박막 에칭 및 애싱 프로세스에 최적화되어 고도로 발전된 etcher/asher입니다. 모듈 식 챔버 디자인, 디지털 저전압 RF 전원 공급 장치, 터보 펌프 (옵션) 및 터치 스크린 인터페이스가 특징입니다. 이 자산은 안정적이고, 반복 가능하며, 효율적인 운영을 위해 설계되었으며, 고급 반도체 프로세싱에 이상적인 선택입니다.