판매용 중고 LAM RESEARCH Exelan HPT #195406
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판매
ID: 195406
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2001
Oxide etcher, 8"
(3) Chambers
Configuration:
Transfer Module: A6
VCE: L-VCE : Brooks 004-9200-24
R-VCE : Brooks 004-9300-24
Robot: BROOKS, Magnatran7, Model 002-4037-02
PM-1: EXELAN HPT
PM-2: EXELAN HPT
PM-3: EXELAN HPT
Aligner: present
Aligner Controller: Model 001-4130-03
User Interface: CRT Monitor, PC, Keyboard, Signal Tower
Gas Box: Standard 8-Channel (With GIB)
TMP-PM1: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM2: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM3: ALCATEL ATH1600M
RPM: 685-495112
Main-Power
UPS-Power
Signal Tower: 3-Color (red, green, yellow)
EMO: Push Button
Arm type: twin arm
Lid lifter: present
Wafer Detection System
EMO Hub
Cable receways
Facilities Distribution
PM Gate Valves: 853-442064-002
TM Vacuum Valve: 796-095595-001
VCE Vacuum Valve: 796-094747-002
Module Configuration(M/D,P/N,S/N)
Process module type: Exelan HTP
One Box: ENI Parts NO : OB1-R03, LRC Parts NO.: 660-099877R101
CM gauge-1 (process chamber): MILLIPORE, 2Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 10Torr
Turbo pump: ALCATEL, ATH1600M
Turbo pump controller: ALCATEL, ACT 1300M/1600M
Throttle valve: Pendulum Valve, 65046-PH52-ALQ1
CM gauge-1 (process chamber): MKS, 629A-14608, 0.1Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 625A11TDE, 10Torr
CM gauge-3 (foreline): MKS, 625A11TDE, 10Torr
Turbo bypass valve: -
Turbo exhaust valve: Present
Slot valve: Present, 853-442064-002
Endpoint detector: 4-CH(A-390nm, B-480nm, C-440nm, D-400nm)
Cooling He MFC: MKS Type649
Turbo Pressure Switch - 1: Present
Turbo Pressure Switch - 2: Present
Chamber Vacuum Switch: Present
Chamber ATM Switch: Present
Gas No Gas Name Range Model
1 AR 1L UNIT, UFC-8161
2 N2 200CC UNIT, UFC-8161
3 O2 50sccm UNIT, UFC-8161
4 CF4 100sccm UNIT, UFC-8161
5 CHF3 50CC UNIT, UFC-8161
6 O2 20CC UNIT, UFC-8161
7 CH2F2 50sccm UNIT, UFC-8161
8 C4F8 20CC UNIT, UFC-8161
Chamber Parts - Bad
ESC - Bad (Crack & Chipping)
2001 vintage.
LAM RESEARCH Exelan HPT는 대부분의 고급 반도체 장치의 고정밀 에칭 및 애쉬 (ash) 처리에 대한 성능 요구 사항을 충족하고 초과하도록 설계된 etcher/asher 시스템입니다. MEMS 장치, 집적 회로 및 기타 새로운 장치와 같은 응용 프로그램에 사용됩니다. 이 장비는 높은 처리량, 뛰어난 처리 균일성, 뛰어난 프로세스 반복성을 제공하는, 매우 정밀하고 자동화된 프로세스 제어 기능을 사용합니다. Exelan HPT는 멀티 탱크 처리 모듈, 고가로드 잠금 장치, 인터페이스 챔버, 웨이퍼 처리 스테이션 및 진공 펌프로 구성됩니다. 이 시스템의 아름다움은 최적의 결과를 보장하기 위해 통합 인사이트 (in-situ) 클리닝 장치 (옵션) 와 함께 제공됩니다. 멀티 탱크 모듈은 최대 3 개의 처리 탱크 (processing tank) 와 재확보 탱크 (reclaim tank) 를 제공하여 다양한 유형의 재료를 효율적으로 처리합니다. 이중 탱크 모듈은 단일 기판 또는 이중 기판 구성으로 제공되며, 습식/건식 에칭, 습식/건식 산화물 에칭, 습식/건식 보호 코팅 및 무전기식 도금/스퍼터링과 같은 다용도 처리 모드를 제공합니다. 로드 잠금 (load lock) 을 높이면 향상된 웨이퍼 처리 스테이션 (wafer handling station) 을 사용하여 웨이퍼의 처리 및 언로드를 개선할 수 있습니다. 인터페이스 챔버 (interface chamber) 는 가공 단계에서 사용되는 기질과 가스, 액체 사이의 교차 오염을 방지합니다. 웨이퍼 처리 스테이션은 처리 탱크, 프로브 및 기타 주변 기기 간의 자동 웨이퍼 전송을 제공합니다. 다목적 LAM RESEARCH Exelan HPT 머신은 또한 워크플로의 유연성을 극대화하는 다국어 메뉴 도구를 제공합니다. (PHP 3 = 3.0.6, PHP 4) 또한 프로세스 모니터링, 사용자 정의 레시피 제어 기능, 다양한 지원 기능 등 다양한 제어 기능을 제공합니다 (영문). 엑셀란 HPT (Exelan HPT) 의 탁월한 성능은 고정밀 에칭 및 재 처리를 위해 선택할 수있는 장비입니다. 이 시스템의 유연성 (Flexibility) 을 통해 다양한 소재 및 기판의 효율적이고 반복 가능한 에칭이 가능하며, 처리량이 높고 연속성이 뛰어납니다. 이 장치는 반도체 소자 제조에서 하이엔드 에칭 (etching) 애플리케이션을 위한 탁월한 선택입니다.
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