판매용 중고 LAM RESEARCH / DRYTEK DRIE-100 #82998

LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100은 현대 반도체 장치 처리의 요구를 충족시키기 위해 개발 된 매우 정밀한 etcher/asher입니다. DRYTEK DRIE-100 (DRIE-100) 은 정확성과 신뢰성을 고려하여 제작되었으며, 다양한 장치 요구에 적합한 제품입니다. 그것 은 금속 과 중합체 에서 "이완제 '에 이르는 여러 가지 재료 를 절단 할 수 있다. LAM RESEARCH DRIE-100은 많은 장치 제조업체 및 연구 실험실에서 선택할 수있는 여러 기능을 갖추고 있습니다. 이 장비는 여러 공정 영역 (process zone) 으로 설계되어 일관된 온도, 균일 한 에치 깊이를 제공합니다. 이 디자인은 또한 다양한 웨이퍼 홀더 (wafer holder) 와 프로그래밍 가능한 프로세스 제어 (process control) 를 갖추고 있으므로 모든 프로세스 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. DRIE-100은 또한 다양한 에칭 가스 (etching gase) 와 호환되며 주파수 튜닝 RF 무선 주파수 소스 (frequency-tuned RF radio-frequency source) 와 호환되므로 민감한 물질에 대한 손상을 제한 할 수 있습니다. "에칭 '실 내 에 균일 한 전기 전위 를 유지 하는 유도" 플레이트' 에 의하여 "시스템 '의 정밀도 가 더욱 향상 된다. 안전 및 품질 보증 측면에서 LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100에는 필요한 모든 시스템이 장착되어 있습니다. 통합 진공 장치 는 먼지, 부스러기, 액체 오염 물질 이 기계 에서 멀리 떨어져 있으므로, 오염 될 위험성 을 방지 해 줍니다. 그렇습니다. 고속 카메라 및 옵티컬 센서 (Optical Sensor) 는 에칭 중에 실시간 피드백을 제공하여 프로세스 매개 변수를 실시간 (Real Time) 및 엔드 엔드 (End-End) 결과에서 쉽게 평가할 수 있습니다. DRYTEK DRIE-100은 여러 시설에서 철저한 테스트를 거쳤으며, 그 품질과 효과를 인증했습니다. 정확성, 균일성, 신뢰성을 통해 많은 디바이스 프로세싱 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다. 사용이 쉽고, 유지 관리가 용이하며, 정교한 디자인으로 빠르고 효율적인 고품질 마이크로 (micro) 장치와 나노 (nano) 장치를 만들 수 있습니다. 다양한 기능을 갖춘 LAM RESEARCH DRIE-100은 연구와 산업 환경 모두에 이상적인 선택입니다.