판매용 중고 LAM RESEARCH / DRYTEK DRIE-100 #164804

LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100은 박막 기판에서 나노 미터 및 미크론 스케일 기능을 생산하는 데 사용되는 반응성 이온 에처 및 애셔 장비입니다. 고성능, 정밀 엔지니어링, 사용이 간편한 제어 기능을 통해 여러 고급 재료 처리 (advanced materials processing) 어플리케이션에 이상적인 툴이 됩니다. DRYTEK DRIE-100은 챔버 크기가 크고 직경이 최대 200mm 인 기판을 처리 할 수 있습니다. 금속, 고분자, 실리콘, 게르마늄, 유기물 등 다양한 박막 재료에 대한 높은 수준의 선택성을 제공합니다. 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 공정은 탄소 및 플루오로 카본 함유 가스를 최소화하도록 맞춤 될 수 있으며, 이는 기능 선택성과 균일 한 에칭을 초래한다. LAM RESEARCH DRIE-100에는 에칭 프로세스, 기판 홀더, RF (무선 주파수) 생성기 및 가스 제어 장치를 제어하는 전원 공급 장치가 있습니다. DRIE-100의 제어 시스템은 광범위한 박막 재료를 처리하고 압력, RF 전력, 양극/음극 간격, 아르곤 흐름, 에칭 시간 등 다양한 프로세스 매개 변수를 설정하도록 프로그래밍 될 수 있습니다. 또한, LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100은 오염을 최소화하기 위해 전통적인 반응성 이온 에치 (RIE) 및 이중 단계 청소/에치를 포함한 여러 프로세스 모드를 지원할 수 있습니다. 또한 선택성 향상을 위해 사진 활성화 에칭을 사용하는 옵션도 제공합니다. DRYTEK DRIE-100에는 고급 압력 제어 장치 (Advanced Pressure Control Unit) 가 장착되어 있으며, 웨이퍼 안정성 및 에칭 균일성 향상을 위해 일련의 진공 모듈이 결합되어 있습니다. LAM RESEARCH DRIE-100은 안전을 염두에두고 설계되었으며 고정밀도, 반복 가능 및 신뢰성 있는 결과를 보장합니다. 이 소프트웨어에는 endpoint, non-volatile memory, real time clock 및 fast-target autofocus 기능과 같은 기능을 비롯하여 사용자 구성 가능 매개변수가 포함됩니다. 이 기계에는 진단 기능 및 자체 테스트 기능도 내장되어 있습니다. DRIE-100은 R&D 및 파일럿 생산 응용 프로그램을위한 강력하고 다재다능한 etcher/asher 도구입니다. 사용이 간편한 컨트롤과 고급 압력 제어 (Pressure Control) 를 통합한 고급 설계로 빠르고, 반복 가능하며, 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100은 동적 기능과 강력한 구성으로, 선택성이 높은 나노미터 및 미크론 스케일 기능을 만드는 신뢰할 수 있는 도구입니다.