판매용 중고 LAM RESEARCH Autoetch 590 #293807554

LAM RESEARCH Autoetch 590은 현대 반도체 제조 작업 흐름을 위해 설계된 매우 정교한 etcher/asher입니다. 이 장비는 고급 기술을 사용하여 한 대의 편리한 머신에서 정밀 에칭 (eching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 제공합니다. Autoetch 590 은 최고 수준의 에칭 (etching) 및 애싱 속도 (ashing) 및 정확도를 제공함으로써 오늘날 대용량 반도체 제작 요구에 대한 생산 처리량 및 수율을 높입니다. LAM RESEARCH Autoetch 590은 FOUP 컨테이너 (FOUP Container) 를 사용하여 직접 인간 접촉없이 안전하게 웨이퍼를 운송하는 친환경 방식으로 작동합니다. 이는 유해 화학 물질을 직접 처리하지 않아도 되며, 인력과 중요한 제품을 모두 손상으로부터 보호합니다. 또한 유연한 프로그램을 지정하여 작업 요구사항을 특정 에칭 (etched) 웨이퍼에 맞게 조정하여 성능을 최적화할 수 있습니다. 이 시스템은 고객의 요구에 따라 프로세스 (process) 기능을 쉽게 추가할 수 있습니다. Autoetch 590은 다양한 레시피를 처리 할 수 있도록 고해상도 1µm 스텝 내장 레이저 (옵션 변환 렌즈 포함) 를 사용합니다. "레이저 '동력 과" 펄스' 시간 을 조절 함 으로써 "웨이퍼 '속 에 크고 작은 특징 들 을 정확 히 에칭 하여 놀라운 속도 로 어려운" 패턴' 을 만들 수 있다. 또한 "레이저 '는 마스크 종속 패턴 오류 를 최소화 하기 위한" 크로스토크' 자유 "에칭 '의 장점 을 제공 한다. 또한 LAM RESEARCH Autoetch 590에는 기판 오정 제어, 온도 제어, 전원 수준 설정, 슬릿 너비, 에어로졸라이즈화된 화학 농도 설정 등 다양한 고급 및 맞춤형 프로세스 매개변수가 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 가장 어려운 작업에 필요한 매개변수를 정확하게 설정할 수 있습니다. 이 장치는 또한 고급 도량형 (Advanced Metrology) 및 검사 (Inspection) 기능을 제공하여 프로세스의 임의의 단계에서 식각 정확성을 보장합니다. Autoetch 590은 K 시리즈 화학 전달 노즐을 사용하여 에치 속도를 정확하고 빠르게 제어합니다. 이 기계는 처리 된 각 기판의 에치 레이트 (etch rate) 의 최고 정확성과 일관성을 보장하는 뛰어난 제어 및 신뢰성을 가지고 있습니다. 이 도구는 공정 매개변수 (etching process-parameters) 를 모니터링하기 위한 교정 셀을 통합하여 정밀 제어 및 매우 균일한 에치를 보장합니다. 자산은 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 의 모든 측면을 제어할 수 있는 안전한 환경을 제공하는 처리 스테이션에 연결됩니다. 이렇게 하면 자동 웨이퍼 매핑을 통해 에칭 (etching) 및 어싱 (ashing) 작업과 관련하여 웨이퍼를 최적으로 정렬할 수 있습니다. 또한, 이 모델은 고도의 통합을 제공하여 다양한 외부 프로세싱 플랫폼 (external processing platform) 과의 통신을 용이하게 합니다. LAM RESEARCH Autoetch 590 (LAM RESEARCH Autoetch 590) 은 가장 복잡한 생산 요구에 맞게 장비를 구성하는 데 간단한 설계 도구, 설정 시간 및 프로그래밍 언어를 제공합니다. 결론적으로 Autoetch 590은 현대 반도체 제작 회사에 이상적인 도구입니다. 첨단 기술과 통합 기능을 통해 높은 수준의 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 정확도, 속도 및 반복성을 얻을 수 있습니다. 이 시스템은 안전하고 친환경적인 워크플로우 (workflow) 를 유지하면서 매우 엄격한 운영 요구 사항을 충족하는 고객별 프로세스를 제공합니다.