판매용 중고 LAM RESEARCH Autoetch 590 #293772678

LAM RESEARCH 590은 반도체 제조 공정에 일반적으로 사용되는 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 도구 는 "실리콘 ', 산화" 실리콘', 금속 "필름 '및 기타 유기 물질 과 같은 기판 에 있는 여러 가지 물질 에 대해 정확 하고 제어 된 식각 및 발진 기능 을 제공 하도록 설계 되었다. LAM RESEARCH Autoetch 590 (LAM RESEARCH Autoetch 590) 은 광범위한 프로세스 기능을 제공하여 반도체 산업의 다양한 응용 프로그램에 적합합니다. 590 의 주요 특징 중 하나 는 첨단 "플라즈마 에칭 '기술 인데, 이것 은" 가스' 와 RF "에너지 '의 결합 에 의존 하여 기판 표면 에서 물질 을 선택적 으로 제거 한다. 이 시스템에는 공정 챔버 (process chamber) 에서 플라즈마를 생성하는 고출력 RF 발전기 (High-Power RF Generator) 가 장착되어 기판과 상호 작용하여 재료를 분리합니다. 이 장치는 또한 기질 전체에 균일 한 에칭을 보장하기 위해 정확한 가스 흐름 제어 (gas flow control) 및 압력 조절 메커니즘을 특징으로합니다. 오토 에치 590 (Autoetch 590) 에는 로드 락 챔버 (load-lock chamber) 가 장착되어 있으며, 공중실 (process chamber) 을 공기 오염 물질에 노출시키지 않고 기판의 안전한 로드 및 언로드가 가능합니다. 즉, 깨끗한 프로세스 환경을 유지하고 높은 프로세스 반복성과 신뢰성을 보장하는 데 도움이 됩니다. 이 기계는 또한 배치 처리 기능, 높은 처리량, 반도체 제조의 효율성, 배치 처리 기능 등 다양한 웨이퍼 처리 옵션을 갖추고 있습니다. 이 도구는 소형 웨이퍼 (small wafer) 에서 대형 패널 (large panel) 에 이르기까지 다양한 크기의 기판을 처리 할 수 있으므로 다양한 제조 요구를 충족하는 다용도 도구입니다. LAM RESEARCH 590은 등방성 (isotropic) 및 이방성 에칭 (anisotropic etching), 강하성 애싱 (descum ashing) 및 저항성 스트리핑 등 다양한 에칭 및 애셔 프로세스를 제공합니다. 이러한 프로세스는 특정 구성 요구 사항을 충족하도록 손쉽게 사용자 정의하고 최적화할 수 있습니다. LAM RESEARCH Autoetch 590에는 현장 내 종점 감지, 광학 방출 분광학 (OES) 및 고급 프로세스 레시피 관리 소프트웨어를 포함한 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 기능을 통해 사용자는 실시간으로 에칭 (etching) 프로세스를 모니터링 및 제어할 수 있으며, 중요한 프로세스 매개변수를 정확하게 제어하고 전반적인 프로세스 성능 및 생산량을 향상시킬 수 있습니다. 자산은 또한 자동 종료 프로토콜, 가스 누출 감지 시스템 (Gas Leak Detection System), 비상 정지 버튼 (Emergency Stop Button) 과 같은 기능을 통해 안전성과 신뢰성에 중점을 둡니다. 이 안전 메커니즘은 사고를 예방하고, 모델과 협력하는 운영자의 안녕을 보장합니다. 결론적으로, 590은 반도체 제조 응용 프로그램을 위해 고성능 에칭 및 애싱 기능을 제공하는 최첨단 에처/애셔 (etcher/asher) 장비입니다. 고급 플라즈마 (Plasma) 기술, 정확한 프로세스 제어 기능, 다양한 처리 옵션을 갖춘 Autoetch 590은 최신 반도체 제작 프로세스의 까다로운 요구 사항을 충족하는 데 유용한 툴입니다.