판매용 중고 LAM RESEARCH Alliance A6 9608 PTX #9266046

ID: 9266046
웨이퍼 크기: 8"
Etcher, 8" Integrated gas panel PM1: Microwave PM2: 9600 PTX PM3:9600 PTX PM4: Microwave PM5: Aligner PM6: Cool station Electrostatic chuck Turbo pump Turbo gate valve: VAT65 Photodiode endpoint detection system Gases: N2, O2, BCL3, CHF3, CL2, AR CD ROM Manuals included Mainframe Robot MAG7 Dual blade VCE6, Rotation, with dynamic seal Signal lamp tower Turbo Pump: PM1: NA PM2: SEIKO SEIKI H1303CV3 PM3: SEIKO SEIKI H1303CV3 PM4: NA RF/ Microwave generator: PM1: MKS CPS PM2: ADVANCED ENERGY RFG 1250 / ADVANCED ENERGY RFG1250 HALO PM3: ADVANCED ENERGY RFG 1250 / ADVANCED ENERGY RFG1250 HALO PM4: MKS CPS.
LAM RESEARCH Alliance A6 9608 PTX는 PVD (Advanced Physical Vapor Deposition) 및 에칭 기술로, 장치 제조업체가 높은 수율과 더 높은 성능을 가진 복잡한 비휘발성 메모리 칩을 만들 수 있도록 설계되었습니다. 얼라이언스 A6 9608 PTX (Alliance A6 9608 PTX) 는 다양한 전용 모듈을 제공하여 장치 구성 요구를 충족시켜 집적 회로를 보다 빠르고 정밀하게 설계할 수 있습니다. LAM RESEARCH Alliance A6 9608 PTX는 물리적 증기 증착 (PVD) 에서 화학 에칭 (비휘발성 메모리 칩 제작에 필수적) 에 이르기까지 다양한 진공 프로세스 기능을 갖추고 있습니다. 이를 통해 챔버 압력 (chamber pressure), 온도 (temperate), 증착 속도 (deposition speed) 및 균일성 (unifority) 과 같은 프로세스 조건을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이러한 기능을 통해 장치 메커니즘을 레이어 간에 정확하게 에칭 (etching) 하고 정확하게 제어할 수 있으므로, 많은 비용과 시간이 소요되는 수동 조정이 필요 없습니다. 또한, 이 시스템에는 온도 프로그래밍, 챔버 (chamber) 의 손상을 방지하고 부품을 처리하기위한 보호 장치 (Safeguard) 가 장착되어 있습니다. 이를 통해 프로세스 조건을 쉽고 정확하게 튜닝할 수 있으며, 더 높은 수율을 제공하고, 오염의 위험을 줄일 수 있습니다. 또한, 높은 수준의 제어성을 가진 Alliance A6 9608 PTX는 3 차원 컨투어로 어려운 구조를 제작하는 데 사용될 수 있습니다. 이것은 이전보다 훨씬 높은 수율과 성능을 지닌 복잡한 아키텍처 (예: 나노 (nano) 규모의 메모리 칩) 를 구축하는 데 사용될 수 있습니다. LAM RESEARCH Alliance A6 9608 PTX는 또한 고효율 로봇 샘플 처리 및 슬릿/소스 영역을 갖추고 있습니다. 이 기능은 적절한 양의 샘플을 높은 정확도와 빠른 속도 (rate rate) 로 처리할 수 있도록 제공됩니다. "로봇 '처리기 는" 오퍼레이터' 가 여러 가지 과정 단계 를 제어 할 수 있게 해 주는 중앙 제어 "시스템 '에 연결 되어 원활한 작동 과 효율성 을 보장 해 준다. 결론적으로 Alliance A6 9608 PTX는 최고의 에처 (etcher) 이며 복잡한 비휘발성 메모리 칩을 제작하는 데 필요한 사람들을위한 애셔입니다. 통합 진공 공정 기능, 온도 안전 프로그래밍 (Temperature Safety Programming), 정교한 로봇 샘플 처리를 통해 구형 시스템보다 더 짧은 시간 내에 정밀도 및 제어성 (Controlability) 을 제공할 수 있습니다.
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