판매용 중고 LAM RESEARCH Alliance 6 #9145733
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ID: 9145733
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Transport module, 8"
Robot:
Position: Transfer
Maker: BROOKS
Model: Mag 7
(2) Blades
System monitor:
(3) Monitors
Load lock:
Load lock type: Auto door
VCE Elevator: Bellows
Mapping sensor
VCE Gate valve
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Cassette type:
(25) Slot cassettes
TM Lid:
Pneumatic cylinder lift
Up / Down actuate switch
Transport system control:
Transport VME ( MVME 147-011, VME335, DIOXVME-240 )
Multiplexer PCB
Light tower PCB
Chamber:
Position I:
Chamber type: Empty
Position II:
Chamber type: Empty
Position III:
Chamber type: Empty
Position IV:
Chamber type: Empty
Aux Position I:
Chamber type: Aligner
AUX Position II:
Chamber type: Empty
Gas boxes:
PM 1
PM 4
PM 2:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D980CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D780CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
PM 3:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D780CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D980CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
Standard signal tower
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump: Single pump type
2000 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 6은 반도체 업계의 대용량 생산 정밀 응용을 위해 설계된 독립형 에처 및 애셔입니다. R&D 및 운영 환경을 위한 효율적이고 비용 효율적인 플랫폼을 제공합니다. Alliance 6은 처리 효율성, 고성능, 균일성을 최적화하는 다양한 기능을 제공합니다. LAM RESEARCH ALLIANCE 6은 처리량 향상을 위해 최대 6 개의 카세트와 함께 작동하는 자동 전송 스테이션이있는 멀티 챔버 (multi-chamber) 장비입니다. 스탠드 오프, 유전체 및 등방성 에치 (etch) 응용 프로그램 옵션이 포함 된 균일 한 수직 및 수평 프로파일을 제공합니다. 시스템 설계는 또한 다양한 에치 슬로프 제어 (etch-slope control) 및 균일성 (unifority) 과 에치 프로세스 제어 매개변수를 최적화하는 기능을 제공합니다. 이 장치는 또한 입자 오염을 제어하고 공정 입자 오염을 방지하기위한 다양한 기능을 제공합니다. 공정 환경을 지속적으로 갱신하는 자동화된 고진공 배기기 (High Vacuum Exhaust Machine) 를 사용하여 공정 부산물 구축을 방지합니다. 이 도구에는 챔버 벽에서 입자를 효율적으로 제거하는 스크러버 진공 (scrubber-vacuum) 기능 (옵션) 도 있습니다. 얼라이언스 6 (Alliance 6) 은 3 인치 또는 4 인치 300mm 웨이퍼 캐리어 자산으로 작동하도록 설계되었으며 웨이퍼를 적재하기위한 자동 급지대와 로봇 암이 장착되어 있습니다. 병렬 (parallel) 및 비병렬 (non-parallel) 챔버 구성의 조합을 사용하여 균일성과 일관된 두께를 달성합니다. 또한 다중 채널, 이중 극성 RF 전력을 사용하여 결함 속도가 낮은 균일 한 에칭을 보장합니다. LAM RESEARCH ALLIANCE 6은 구성 가능한 음극 배열을 특징으로하며, 주 음극 스테이션은 최적의 임시 에치를 위해 플래튼 (platen) 과 그리드 (grid) 전극을 모두 갖습니다. 이 모델은 웨이퍼 매핑을 포함한 고급 진단 (advanced diagnostics) 을 사용하여 정확한 etch back 동작을 보장합니다. 또한 고온 조절, 고속 음극 회전, 정확한 화학 제어를 위한 화학적 전달 장비도 갖추고 있습니다. 얼라이언스 6 (Alliance 6) 은 고급 소프트웨어를 활용하여 전체 실행 시 프로세스 매개 변수를 제어하고 챔버 성능에 대한 지속적인 피드백을 제공합니다. 이렇게 하면 프로세스 매개변수와 균일 한 프로파일 결과를 지속적으로 최적화할 수 있습니다. 이 시스템은 인터넷과 인트라넷을 통한 원격 모니터링 (remote monitoring) 과 데이터 관리 (data management), 그리고 레시피 및 성능 데이터를 PC 또는 네트워크 데이터베이스로 전송할 수 있도록 설계되었습니다.
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