판매용 중고 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182310
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ID: 9182310
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open / Close (Manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Load lock:
Manual door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor included
Cassette type: 25 Slot cassette
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Aux position 1: Aligner
Chamber position 2:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
Chamber position 3:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1은 가장 엄격한 반도체 제작 요구 사항을 충족하도록 설계된 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 고급 기술을 활용하여 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스의 최고 수준의 정밀도, 속도, 유연성을 제공하며 여전히 뛰어난 처리량을 유지합니다. LAM RESEARCH Alliance 4.1의 핵심은 고급 대용량 증착 장치 (High Capacity Deposition Unit) 로, 타의 추종을 불허하는 균일 에칭을 가능하게하면서 높은 레이어 증착률을 가능하게합니다. 이 기계는 멀티 스테이지 도구 아키텍처를 사용하여 우수한 에칭 결과를 얻습니다. 또한 저온과 고온에서 최적의 에치 레이트 (etch rate) 를 유지하기 위해 핫 (hot) 및 콜드 가스 튜닝 시스템 (cold gas tuning system) 의 조합을 사용합니다. 이 자산은 또한 독특한 가스 흐름 모니터를 사용하여 가스 누출 또는 불규칙성을 감지합니다. LAM RESEARCH Alliance 4.1은 고급 PDT (Process Development Toolset) 를 사용하여 뛰어난 프로세스 제어를 보장합니다. 이 도구 집합을 통해 사용자는 프로세스의 개발 및 조정을 통해 특정 요구사항과 매개변수를 충족할 수 있습니다. 완벽한 균일 한 에칭 프로세스를 달성하기 위해 압력, 유속, 온도, 가스 혼합 (gas mixture) 등과 같은 챔버 매개변수를 평가하고 조정하는 데 사용됩니다. 이 툴은 또한 실시간 피드백 (feedback) 모델을 제공하여 프로세스 관련 문제가 발생할 경우 신속하게 문제를 해결할 수 있습니다. LAM RESEARCH Alliance 4.1은 또한 시장에서 최고의 안전 기능을 제공합니다. 고급 웨이퍼 안전 장비 (Advanced Wafer Safety Equipment) 는 웨이퍼가 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 손상되는 에너지 수준에 노출되지 않도록 보장합니다. 또한, 다운 스트림 오염 가능성을 방지하기 위해 여러 개의 다운 스트림 필터가 포함됩니다. 마지막으로, 견고하고 신뢰할 수 있는 제어 시스템은 예기치 않은 유닛 장애 (Unit Failure) 로 인해 프로세스가 중단되지 않도록 합니다. LAM RESEARCH Alliance (LAM RESEARCH Alliance) 4.1의 전반적인 설계와 기능을 통해 시장에서 가장 경쟁력 있는 에처/애셔 시스템 중 하나입니다. 정밀도, 속도, 유연성을 통해 모든 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 작업을 처리할 수 있습니다. 따라서 LAM RESEARCH Alliance 4.1은 모든 반도체 제작 요구에 가장 적합한 선택입니다.
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