판매용 중고 LAM RESEARCH A6 9608 PTX #9410070

LAM RESEARCH A6 9608 PTX는 고급 플라즈마 에처/애셔로, 최신 에칭/애싱 요구 사항을 지원하는 뛰어난 성능과 기능을 갖추고 있습니다. 첨단 HVIF (High-Velocity Ionized Flow) 기술이 적용된 대규모 멀티 챔버 장비이며, 여러 개의 프로세싱 챔버에서 다양한 크기의 기판을 청소할 수 있습니다. A6 9608 PTX는 고주파와 고출력을 사용하여 안정적이고 균일 한 플라즈마 토치를 만드는 차세대 플라즈마 소스 (plasma source) 기술을 갖추고 있습니다. 이 고급 기술은 낮은 데미지와 뛰어난 에치/애쉬 균일성으로 높은 에칭/애싱 정밀도를 가능하게합니다. 또한 제어 시스템은 플라즈마 토치 전원 (torch power) 과 반복 (repeatability) 을 자동으로 조정하여 프로세스 반복성과 성능 정확도를 높일 수 있습니다. LAM RESEARCH A6 9608 PTX에는 멀티 존 가스 전달 장치 (multi-zone gas delivery unit) 가 장착되어 있어 에칭/애싱 반응을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 다중 영역 가스 전달 머신 (multi-zone gas delivery machine) 을 사용하면 압력, 온도, 흐름 등의 챔버 설정을 조정하여 에칭/애싱 반응을 프로세스 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. A6 9608 PTX는 또한 CF4 (tetrafluoromethane), C3F6 (hexafluoroethane) 및 기타 가스 혼합물과 같은 광범위한 가스 유형을 지원할 수 있으므로 대부분의 에칭/애싱 응용 분야에 적합합니다. 이 도구에는 반도체 및 비반도체 재료를 모두 처리 할 수있는 특수 웨이퍼 클리닝 에셋이 장착되어 있습니다. 이 모델은 기판에서 원치 않는 재료와 입자를 제거하여 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스 전에 기판을 준비하도록 설계되었습니다. LAM RESEARCH A6 9608 PTX는 에칭/애싱 프로세스 동안 뛰어난 수준의 제어 및 정밀도를 제공하도록 설계되었습니다. 다양한 자동 제어 시스템 (Automated Control System) 을 장착하여 정확하고 반복 가능한 프로세스 조건을 보장합니다. 장비의 포괄적인 소프트웨어 인터페이스를 통해 사용자는 에칭 (etching )/애싱 (ashing) 성능 매개변수를 관찰하고 원격 위치에서 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. A6 9608 PTX는 사전 처리 및 사후 처리 시스템과 같은 다른 LAM RESEARCH 도구와 쉽게 통합되도록 설계되었습니다. 또한 사용자는 다양한 에칭/애싱 (etching) 애플리케이션에 대한 여러 프로세스 레시피 및 프로세스 설정을 구성할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 광범위한 프로세스 데이터를 저장할 수 있으므로 에칭 (etching )/애싱 (ashing) 성능 매개변수를 추적하고 다른 레시피를 실험할 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH A6 9608 PTX는 고급 플라즈마 에처/애셔이며, 최신 에칭/애싱 요구 사항을 지원하는 뛰어난 성능과 기능을 제공합니다. 고급 HVIF (High-Velocity Ionized Flow) 기술과 멀티 존 가스 전달 장치가 장착되어 있어 정밀 에칭/애싱 애플리케이션에 적합합니다. 또한, 이 기계는 자동 제어, 프로세스 데이터 저장, 다양한 가스 유형 (gas type) 을 제공하여 다양한 에칭/애싱 (etching/ashing) 애플리케이션에 적합합니다.