판매용 중고 LAM RESEARCH A6 9600 PTX #201020
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판매
ID: 201020
Etcher
Process: metal
SMIF type: API
Chamber type: PTX
Chambers: (2) PM, (2) Strip
Automation online component: SECS I/II, SECSGEM
Chamber config
Process module 1:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
Process module 2:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner, chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 3:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner ,chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 4:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
EPD
Channel: end point filter box for PM 1 and PM 2
Channel (nm): 853-540066-011 703/261nm, 853-540066-011 703/261nm
Gas and B/H module (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Gas line qty (analog): 3, 8, 8, 3
Gas box model (analog): all universal
Gas 1: O2 5000, BCl3 200, BCl3 200, O2 5000
Gas 2: N2 1000, O2 1000, O2 1000, N2 1000
Gas 3: H2O 1000, Cl2 400, Cl2 400, H2O 1000
Gas 4: n/a, N2 200, N2 200, n/a
Gas 5: n/a, CF4 100, CF4 100, n/a
Gas 6: n/a, Ar 200, Ar 200, n/a
Gas 7: n/a, N2 20, N2 20, n/a
Gas 8: n/a, CHF3 50, CHF3 50, n/a
Helium pressure control unit: n/a, UPC-1300, UPC-1300, n/a
VAC (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Turbo pump: n/a, ATH-1600, ATH-1600, n/a
Turbo pump controller: n/a, ACT1300M/1600M, ACT1300M/1600M, n/a
Dry pump (TM and VCE): all single pump
Chamber manometer: MKS 10Torr, MKS 0.1Torr, MKS 0.1Torr, MKS 10Torr
Turbo manometer: n/a, MKS 10Torr 625A, MKS 10Torr 625A, n/a
Foreline manometer: all MKS 10Torr 625A
Pressure control valve: VAT64, Pendulum VAT65, Pendulum VAT65, VAT64
VAT controller: all software 65PM.3E.20
Temperature control (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Temperature control system: all 16 channel
Chiller type: 1 CH TCU, n/a, n/a, 1 CH TCU
RF generator: UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO, n/a, n/a, UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO
Match: (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002), Stripper SmatchMatch, Stripper SmatchMatch, (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002)
TR system
Platform: A6
Light tower: standard 4 light
Robot type: Brooks Mag-7
Arm type: dual arm
Wafer handling interface: Kalrze end effector
TM cover lift arm with PRK function
VCE inspection: lip seal
Computer system:
PC
Software version 2.2
Remote UI
Standard power
1996 vintage.
LAM RESEARCH A6 9600 PTX는 반도체 IC 및 트랜지스터와 같은 마이크로 전자 장치의 생산에서 에칭 및 애싱 프로세스에 사용되는 에처/애셔 장비입니다. 이 시스템은 에치 (etch) 및 애쉬 (ash) 공정 중 장치 계층이 매우 균일하고 최소한의 손상으로 고해상도 (high-resolution) 결과를 얻을 수 있도록 설계되었습니다. 이 장치는 사용자에게 효율적인 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스를 제공하기 위해 함께 작동하는 여러 구성 요소로 구성됩니다. 기계의 주요 구성 요소는 플라즈마 소스 어셈블리, 외부 프로세스 챔버, 진공 펌프 및 관련 제어 전자 장치입니다. 이러한 컴포넌트는 화학반응적 (chemically reactive) 환경을 만들기 위해 함께 작동하며, 이를 통해 사용자는 성공적인 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에 필요한 반응 및 조건을 제어할 수 있습니다. 플라즈마 소스 어셈블리 (Plasma Source Assembly) 는 공정 챔버 내에 포함된 재료와 반응하는 고밀도 플라즈마 빔을 생성하도록 설계되었습니다. 공정 챔버 (process chamber) 는 샘플 재료를 수용하도록 설계되었으며 반응성 가스 혼합물로 채워집니다. 진공 펌프 (vacuum pump) 는 공정 챔버를 대피시키는 데 사용되며, 에치 및 애쉬 공정으로 생성 된 부산물을 배출합니다. 이 도구는 제어 전자 장치 (주파수 신디사이저, 진폭 변조기, 이벤트 제어 인터페이스 포함) 에 의해 제어됩니다. 주파수 신디사이저 (Frequency Synthesizer) 는 프로세스 중에 최적의 처리량 및 균일성을 위해 플라즈마 매개변수를 정확하게 조정할 수 있는 기능을 사용자에게 제공할 책임이 있습니다. 진폭 변조기 (amplitude modulator) 는 원하는 플라즈마 빔 밀도 및 프로파일을 생성하도록 RF 입력 전원을 조정하는 데 사용됩니다. 이벤트 제어 인터페이스를 사용하면 etch 및 ash와 같은 다중 스테이지 프로세스를 설정할 수 있습니다. A6 9600 PTX는 3 "~ 12" 미만의 웨이퍼에 이르는 생산 크기를 처리 할 수 있습니다. 자산은 금속, 중합체, 유전체와 같은 다양한 재료를 에칭 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 이방성 에칭 프로세스를 높일 수 있습니다. 이 장비의 균일성 (unifority) 과 재현성 (reprodibility) 기능은 집적 회로 및 트랜지스터 생산에 적합합니다.
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