판매용 중고 LAM RESEARCH 9600 #199858
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판매
ID: 199858
웨이퍼 크기: 8"
TCP metal etch system, 8"
Can be converted to 6"
Mounting: bulkhead
Software: Envision 1.52
Indexers: HINE
AC box: -001
Gas box: orbital welded
Clamping: ESC
Backside helium: closed loop
Generator: 3 RFG 1250
RF match: upper TCP, lower mini match, DSQ match
Turbo: SEKO SEKI 1000L
Turbo controller SEKI SEKI STP
VAT gate: VAT 65
VAT controller: PM-7
Endpoint: dual endpoint 703nm and 520nm
DSQ: hinged
WVDS: auto fill
APM: standard
MFCs: unit 1660
Gas config:
Gas 1: CL2 200
Gas 2: BCL3 100
Gas 3: SF6 100
Gas 4: N2 50
Gas 5: N2 1000
Gas 6: Ar 1000
Gas 7: O2 1000
Gas 8: CF4 200
Gas 9: H20 500.
LAM RESEARCH 9600 (LAM RESEARCH 9600) 은 다양한 산업 제조 분야에서 뛰어난 성능과 신뢰성을 제공하도록 설계된 고성능 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 통합 된 1 개 또는 2 개 가스 기능 및 고급 온도 제어 (Temperature Control) 기능을 제공하여 원하는 정밀한 수준에서 재료를 정확하게 에치하거나 애쉬 할 수 있습니다. 이는 박막 증착, 반도체 장치 제조, 박막 포장 및 photomask 제작과 같은 정밀 응용 분야에 유리할 수 있습니다. 또한 9600은 낮은 소음 수준, 숫자 창 기반 컨트롤러, 온보드 진단 (Onboard Diagnostics) 기능을 제공하여 자동화된 제조 프로세스에 적합합니다. 사용이 간편한 사용자 인터페이스 (User Interface) 를 사용하면 매개변수에 쉽게 액세스하고 손가락 터치만으로 즉석에서 조정할 수 있습니다. 이 장치는 또한 고성능 RF 플라즈마 소스를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 탁월한 에치 레이트와 균일성을 얻을 수 있습니다. 또한 LAM RESEARCH 9600은 온도 센서, 공정 균일 컨트롤러 (unifority controller) 등 고급 제어 시스템을 갖추고 있어 프로세스 매개변수를 쉽게 조정하고 진행 상황을 정확하게 모니터링할 수 있습니다. 지능형 가스 전달 기계는 더 높은 수준의 프로세스 균일성 및 일관성을 달성합니다. 추가 기능으로는 정확한 에치 속도와 균일성, 고급 전원 공급 장치 및 컨트롤러, 유지 관리 용이성을 위한 모듈식 구성, 푸시 버튼 가스 스타터, 처리량 및 수율 향상, LAM RESEARCH 차량 관리 (옵션) 등이 있습니다. 오염을 방지하기 위해, 9600은 완전 자동 고효율 재순환 배기를 자랑합니다. 이는 미립자 물질을 포착하고 에칭 챔버에 들어가는 것을 방지합니다. 이렇게 하면 품질과 일관된 에칭 결과가 보장됩니다. 전반적으로 LAM RESEARCH 9600은 효과적이고, 안정적이며, 효율적인 etcher/asher이며, 산업 제조 응용 분야에 적합합니다. 탁월한 성능과 안정성을 보장하는 첨단 기능, 탁월한 성능, 안정성, 비즈니스 생산성, 효율성 향상 등의 이점을 제공합니다.
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