판매용 중고 LAM RESEARCH 9400 DFM #9181359

LAM RESEARCH 9400 DFM은 여러 응용 프로그램에서 탁월한 성능을 제공하는 고급 Plasma Etcher/Asher입니다. 매우 정밀한 시간 및 공간 제어 이온 에치 (Eon Etch) 프로세스를 사용하여 광범위한 에칭 작업에서 우수한 결과를 얻으며 2.5 나노미터 미만의 기능을 에칭 할 수 있습니다. 9400 DFM은 웨이퍼 (wafer), 필터 (filter), 필름 (film) 및 기타 미세한 기능의 정밀 에칭에 사용되며 높은 정도와 정확도를 제공합니다. LAM RESEARCH 9400 DFM에는 2 개의 EIS (Exacting Ion Source) 챔버가 장착되어 있으며 진공 및 대기 처리를 모두 제공 할 수 있습니다. 또한 우수한 CVD (Chemical Vapor Deposition) 및 에칭 성능을 허용하는 이중 모드 CF (Carbon Fiber) 기술을 사용합니다. 이것은 더 높은 혈장 밀도와 탄소 섬유 (Carbon Fiber) 의 독특한 원자 기여를 통해 가능합니다. 이 장비 는 여러 가지 재료 를 "에칭 '할 수 있으며, 광범위 한 용도 에 사용 될 수 있다. 여기에는 유전체 에칭, 하드 마스크 에칭, 접촉 에칭, 에칭 및 다마신 에칭이 포함됩니다. 에칭 결과는 매우 반복 가능하며, 경사 및 포토 esist 에칭을위한 뛰어난 가장자리 및 산화물 거칠기를 제공합니다. 이 시스템은 또한 최고의 수준의 챔버 재생성 (chamber reprodibility) 을 보장하기 위해 여러 가지 고급 제어 기술을 갖추고 있습니다. 고급 RF 바이어스 제어 장치 (advanced RF bias control unit) 를 사용하여 이온 에너지와 스퍼터링에 대한 기계의 뛰어난 제어를 제공합니다. 또한 9400 DFM의 운영을 자동화하는 챔버 관리 자산 (Chamber Management Asset) 이라는 고급 자동 도구가 포함되어 있으며, 운영자 오류를 줄이고 가동 시간과 생산성을 향상시킵니다. LAM RESEARCH 9400 DFM은 매우 정밀한 기능을 생산하기위한 고급 etcher/asher이며, 광범위한 응용 프로그램에서 사용할 수 있습니다. 이 모델에는 반복 가능한 에칭 결과를 보장하는 여러 가지 고급 제어 기술이 있으며, 듀얼 모드 CF (Dual-Mode CF) 기술은 탁월한 CVD 및 에칭 성능을 제공합니다. 반도체 업계의 많은 기업에서 "에칭 (etching) '과" 에칭 (etcher)' 을 함께 했다.