판매용 중고 LAM RESEARCH 839-019010-200 #293745742

LAM RESEARCH 839-019010-200은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제조 응용 분야를 위해 설계된 고급의 etcher/asher 장비입니다. 정밀도, 안정성, 효율성으로 잘 알려진 이 도구는 최첨단 전자 장치의 제조 (fabrication) 프로세스에 필수적인 요소입니다. 고성능 성능을 제공하는 데 중점을 둔 839-019010-200 (839-019010-200) 은 시중의 다른 에처/애셔와 차별화되는 다양한 혁신적인 기능과 기능을 제공합니다. LAM RESEARCH 839-019010-200 (LAM RESEARCH 839-019010-200) 의 핵심에는 고급 플라즈마 에칭 기술이 있는데, 이를 통해 반도체 웨이퍼에서 재료를 정확하게 제거하여 복잡한 패턴과 구조를 만들 수 있습니다. 이 시스템은 RF 및 전자 레인지 플라즈마 소스의 조합을 사용하여 실리콘, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 알루미늄 및 티타늄과 같은 금속 등 다양한 물질을 효과적으로 에치 할 수있는 매우 반응성 플라즈마를 생성합니다. 839-019010-200의 주요 강점 중 하나는 다양성과 유연성입니다. 등방성 (isotropic) 및 이방성 에칭 (anisotropic etching) 을 포함한 광범위한 에칭 프로세스와 높은 종횡비 구조를 생성하기위한 DRIE (Deep Reactive Ion Etching) 를 수행 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 특정 장치 요구 사항 및 재료 조성에 맞게 사용자 정의 할 수있는 다양한 가스 화학 물질 (gas chemistry) 및 공정 레시피 (process recipe) 를 제공합니다. LAM RESEARCH 839-019010-200은 에칭 기능 외에도 애셔 (asher) 로 기능할 수 있으며, 이는 반도체 표면에서 유기 오염 물질과 잔기를 제거하는 데 사용됩니다. 이 이중 기능으로 인해 컴퓨터는 후속 처리 단계에 대한 반도체 웨이퍼 (wafer) 를 청소하고 준비하는 데 귀중한 자산이 되며, 최종 장치의 품질과 신뢰성을 보장합니다. 839-019010-200 은 생산성과 프로세스 제어를 향상시키기 위해 다양한 고급 기능을 갖추고 있습니다. 여기에는 가스 유량 (gas flow rate) 과 혼합물을 정확하게 제어하는 고급 가스 전달 도구 (advanced gas delivery tool) 와 플라즈마 특성을 정확하게 튜닝 할 수있는 정교한 RF 전원 공급 장치가 포함됩니다. 에셋은 또한 전체 웨이퍼 표면에서 균일 한 에칭을 촉진하고, 변동성을 최소화하고, 장치 성능을 향상시키는 최첨단 챔버 설계를 포함합니다. 또한 LAM RESEARCH 839-019010-200은 사용 편의성과 유지 관리를 염두에 두고 설계되었습니다. 이 모델은 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 운영자가 에칭 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있으며, 문제 해결 및 예방 유지 관리를 위한 포괄적인 진단/모니터링 툴을 제공합니다. 즉, 원활한 운영을 보장하고 가동 시간을 극대화하여 다운타임을 줄이고 운영 효율성을 최적화할 수 있습니다. 전반적으로, 839-019010-200은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제조의 까다로운 요구 사항을 충족시키기 위해 고급 기술, 다용성, 신뢰성을 결합한 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 이 도구는 정밀 에칭 기능, 이중 기능, 사용자 친화적 설계를 통해 차세대 전자 기기 (Electronic Device) 제작에 있어 최고의 성능을 얻을 수 있는 필수 자산입니다.