판매용 중고 LAM RESEARCH 490 #9262860

LAM RESEARCH 490은 가장 까다로운 어플리케이션의 요구를 충족하도록 설계된 etcher/asher 장비입니다. 최첨단 기능과 성능을 갖춘 490 시스템은 반도체 응용프로그램을 위한 매우 정교한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 도구입니다. LAM RESEARCH 490에는 수많은 기능이 있으며, 모두 우수한 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 기능을 제공하는 데 적합합니다. 워퍼 (wafer) 처리를 위한 고급 기능을 갖춘 향상된 웨이퍼 (wafer) 로봇은 더 적은 웨이퍼 스크래칭을 보장하며, 통합 웨이퍼 (wafer) 처리 장치는 칩 손상 위험을 줄이는 데 도움이됩니다. 에칭을 위해 490 기계는 혁신적인 열 제어 Plasma Uniformity Control Tool (PUC) 을 사용하여 다양한 재료 및 기판에서 최상의 결과를 얻기 위해 etch 매개 변수를 미세 조정 및 제어합니다. 또한 LAM RESEARCH 490 자산에는 다양한 기판에서 프로세스 잔류를 최적화하기 위해 고유한 기판 구성 가능한 PCPM (pre-clean process module) 이 포함되어 있습니다. 490 장비의 강력한 제어 모델은 고도의 웨이퍼 투 웨이퍼 (wafer-to-wafer) 반복 가능성과 재생성을 보장합니다. 이렇게 하면 생산성을 최적화하면서 도구 및 사용자 종속 변형을 최소화할 수 있습니다. LAM RESEARCH 490 시스템에 포함된 프로세스 제어 소프트웨어는 에칭 (etching), 프로파일 (profile), 선형 (linearity) 성능을 최적화하는 동시에 실시간 로그 및 프로세스 로그를 볼 수 있도록 설계되었습니다. 또한 490 장치에는 SMSC (Advanced Safety Monitoring and Control Machine) 가 장착되어 있으며, 필요한 경우 운영자가 개입하고 교정 조치를 취함으로써 사고나 웨이퍼의 오류 처리 가능성을 크게 줄입니다. 또한 유지 보수 기록 (Maintenance Record) 과 유지 보수 기간 (Maintenance Interval) 을 추적, 관리하는 데 도움이 되는 기본 제공 유지 관리 모듈을 통해 자산이 잘 유지 관리되고 문제를 무료로 실행할 수 있습니다. 최고의 에칭 성능을 활용하기 위해 LAM RESEARCH 490에는 고급 RF 생성기와 다양한 플라즈마 옵션이 포함되어 있습니다. 고급 RF 생성기 (Advanced RF Generator) 를 사용하면 다양한 RF 전원 수준을 제공하여 에칭 프로세스를 최대한 유연하고 제어할 수 있습니다. 또한이 모델에는 여러 가지 고급 옵션 (예: 멀티 웨이퍼 에치 (multi-wafer etch) 및 미세 튜닝 프로세스 매개변수를 위한 초저 간격 (ultra-low gap)) 이 포함되어 있어 프로세스 균일성을 가장 잘 보장합니다. 요약하자면, 490 장비는 탁월한 균일성과 뛰어난 제품 안전성과 더불어 다양한 강력한 기능을 통해 고급 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 기능을 예시합니다. 따라서, 이 시스템은 에칭 요구 사항이 까다로운 반도체 애플리케이션에 적합한 선택입니다.