판매용 중고 LAM RESEARCH 490 #293657950
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LAM RESEARCH 490은 효율적이고 비용 효율적인 반도체 장치 제작을 용이하게하도록 설계된 etcher/asher입니다. 490 은 운영 및 연구 응용프로그램을 위해 설계되었으며, 높은 처리량 (throughput) 과 반복 가능한 프로세스 제어 (repeatable process control) 기능을 제공하여 특정 요구 사항에 맞게 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 공정 챔버는 2 단계로 원통형이며, 하단 난방 메커니즘과 상단 반응 챔버로 구성됩니다. 자동 웨이퍼 전송 장비는 두 챔버 사이의 웨이퍼 운송을 용이하게합니다. 하방 은 "가스 '취급" 시스템' 에 결합 된 석영 "서셉터 '를 가지고 있어 공정" 가스' 의 전달 을 제어 할 수 있다. 가스는 멀티 가스 매니 폴드를 통해 전달되며, 플라즈마를 생성하는 데 사용될 수있다. 상단 반응 챔버에는 애싱 작업을위한 쿨다운 섹션이 포함되어 있습니다. LAM LAM RESEARCH 490은 단일 웨이퍼 작동을 위해 설계되었으며 웨이퍼 핸들러, 가스 소스, 기본 압력 게이지, 광학 방출 분광기, 챔버 압력 게이지, 증착 헤드 또는 샤워, 공정 개스킷 및 온보드 진단 등 다양한 프로세스 별 구성 요소로 구성 할 수 있습니다. 또한 배기 스크러버, 압력 조절 루프, 추가 안전 기능을 장착 할 수 있습니다. LAM 490 (LAM 490) 은 고품질 기능을 갖춘 실리콘 반도체 기판의 정확한 에칭 및 애싱 (ashing) 과 프로세스 매개변수에 대한 엄격한 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 또한 고객의 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 품질 보증 (Quality Assurance) 및 최적화 (Optimization) 기능을 반복적으로 활용할 수 있습니다. 자가 모니터링 (Self Monitoring) 기능은 제어 장치 (Control Unit) 를 통해 제공되며, 이 기능은 에치드 또는 애시드 재료의 품질을 모니터링하는 데 사용할 수 있습니다. LAM LAM RESEARCH 490은 저알칼리성 재싱 (low-alkaline ashing) 에도 사용될 수 있습니다. 이는 열 및 혈장의 결합 효과를 활용하여 잔류 오염이 최소화되면서 고성능 에칭 결과를 생성하는 혁신적인 에칭 프로세스입니다. 또한 낮은 알칼리 금속 에칭 (eching) 을 가질 수 있으며, 여기서 금속은 플라즈마에 내장되어 오염을 줄이고 반복 가능한 에칭 결과를 달성합니다. LAM 490 etcher/asher는 다양한 반도체 장치를 에칭하고 ash하는 강력한 기계입니다. 공구 (Tool) 의 기능은 다양한 기능과 결합하여 프로세스 개발 (Process Development) 에서 장치 제조 (Device Manufacture) 에 이르기까지 다양한 응용 프로그램에 적합합니다.
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