판매용 중고 LAM RESEARCH 490 / 590 #9119465

LAM RESEARCH 490/590은 반도체 기술을 위해 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 정확한 에칭, 애싱 및 어닐링 프로세스를 위한 혁신적인 솔루션을 제공합니다. 매우 정확한 참호, 접촉 구멍, 미세 비아 샌드 경유 구멍을 에치 및 anneal하도록 설계되었습니다. 또한 고급 트렌치, 구리 및 유전체 에치 프로세스를 지원합니다. 490/590 모델은 이 고급 etcher/asher 시스템을 위해 특별히 개발 된 최첨단 기술 인 GEMINII ® 프로세스 컨트롤을 사용합니다. GEMINI ® 는 탁월한 프로세스 기능과 예측 가능한 결과를 제공하는 통합 소프트웨어 패키지입니다. 각 에치 (etch) 또는 연간 작업 (anneal job) 이 사양에 맞게 완료되도록 장치 성능을 최적화하는 데 도움이됩니다. LAM RESEARCH 490/590은 반도체 제조를위한 저렴한 비용 효율적인 etcher/asher로 설계되었습니다. 최대 5 인치 (wafer) 까지 안전하게 처리할 수 있으며, 자동 로드 시퀀스를 통해 웨이퍼 처리를 최소화하고 프로세스 처리량을 최대화할 수 있습니다. 첨단 클린 룸 (clean-room) 기술로 제작되었으며, 고효율 질소 및 코메티 가스 확산 시스템을 통해 오염을 예방하고 깨끗한 프로세스 환경을 제공합니다. 490/590 은 다양한 선택 가능한 프로세스 설정과 함께 고급 에칭 (etching) 기술을 사용하여 탁월한 결과를 제공합니다. 가스 흐름, 압력, 바이어스 및 온도는 모두 조절 및 모니터링됩니다. 이러한 설정은 각 에칭 (etching) 프로세스를 최적화하여 다양한 응용 프로그램에 가장 적합한 결과를 제공합니다. LAM RESEARCH 490/590 은 최종 사용자에게 유연성을 제공하며, 다른 모드로 작동할 수 있습니다. "표준 모드 (standard mode)" 는 비슷한 크기의 여러 에치를 생성 할 때 가장 좋으며, "단계 모드 (step mode)" 는보다 정확한 에칭 작업에 이상적입니다. 또한 490/590 은 가스 차단 센서, 전원 관리 시스템, 자동 도어 잠금 시스템 등의 고급 안전 기능을 지원합니다. 또한, 기계는 공정 입자가 제어 환경으로 들어가는 것을 방지하는 고효율 배기 도구 (exhaust tool) 를 가지고 있습니다. 요약하자면 LAM RESEARCH 490/590은 고급 에처/애셔 자산입니다. 정교한 소프트웨어 패키지인 GEMINI ® 프로세스 제어를 사용하며, 최대 5인치 웨이퍼를 지원합니다. 매우 정확한 참호, 접촉 구멍, 마이크로 비아 및 비아 홀을 에칭 및 어닐링하여 뛰어난 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 광범위한 프로세스 설정을 제공하며, 고급 안전 기능을 지원합니다. 전체적으로 490/590은 반도체 에치 및 어닐링 응용 분야에 적합한 선택입니다.