판매용 중고 LAM RESEARCH 490 / 590 #9077769
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ID: 9077769
Etcher
Main Chamber:
Chamber
Bottom chamber and exhaust ring
Lower electrode assembly with focus ring style electrode (Boxed separately)
Vacuums
Rotary O-rings
Seals
Pneumatic tubing and fittings
Pneumatic cylinders
Upper electrode is process dependent and not supplied
Load Locks:
Vacuums
Rotary O-rings
Seals
Pneumatic tubing and fittings
Pneumatic cylinders
Wafer arms and wafer guides are size dependent and not supplied
Machine Mainframe:
Pneumatic tubing
Connectors and fittings
Cables re-bundled and ty-wrapped
Frame
Top panels
Front and side panels
Elevators: (Packed separately)
Top plastic dust covers not supplied
Baratron head not supplied
Gap Drive head and Automatch: (Packed separately)
Front display panel and operator interface
Electronics drawer (Packed separately)
Factory manuals are included
Complete frame
RF Power supply is not supplied nor are any external cables, gas lines, throttle valve, or vacuum fittings.
LAM RESEARCH 490/590은 다양한 기판 재료에 이상적인 etcher/asher 장비입니다. 다재다능하도록 설계되었으며, 반응성 이온 에칭 및 저항 애싱 (ashing) 기술의 사용을 지원합니다. 이 시스템에는 완전히 컴퓨터가 제어하는 에치 챔버 (etch chamber) 가 포함되어 있어 에칭 프로세스의 정확한 제어 및 반복성이 가능합니다. 에치 챔버의 챔버 부피는 40 리터이며, 진공 수준에 도달하여 1x10-5 torr까지 도달 할 수 있습니다. 이중 주파수 RF 소스 전원 공급 장치와 세라믹 터보 분자 펌프가 있습니다. 이 챔버는 최대 8 "웨이퍼를 허용하도록 구성 할 수있는 표준 12" x12 "기판 지원을 자랑합니다. 또한 프로세스 모니터링 창 (process monitoring window) 을 통해 실시간으로 etch 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. RIE (Reactive ion etching) 는이 장치의 주요 기능으로, 실리콘, 폴리 이미 드, 폴리 카르 보실란 및 심지어 금속 합금을 포함한 물질로 만든 기질의 에칭을 허용합니다. 날카로운 가장자리로 복잡한 패턴을 형성 할 수 있습니다. 또한 긍정적 인 저항과 부정적인 저항을 모두 수행 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 선택된 가스 화학 증기 증착 (CVD) 기능을 특징으로합니다. 여기에는 펄싱 모드 CVD, 이중 주파수 CVD 및 이중 전력 CVD가 포함되며, 이는 웨이퍼에 SiO2, SiN 및 Al2O3과 같은 재료를 배치하는 데 사용할 수 있습니다. 490/590 etcher/asher 툴은 다양한 기판을 처리할 수있는 다양한 기능과 기능을 제공하는 강력한 에칭 툴입니다. 또한 사용자 친화적인 인터페이스, 유연한 구성, 통합 RF 소스를 통해 에칭 (etching) 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 운영 시간과 비용을 줄이면서 안전하고 안정적으로 고품질 에치 (etch) 결과를 얻을 수 있습니다.
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