판매용 중고 LAM RESEARCH 4526 #9135993
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ID: 9135993
웨이퍼 크기: 6"
Oxide RIE etcher, 6"
HINE 38A Indexer
Clamp
ADVANCED ENERGY PDW2200 RF Generator.
LAM RESEARCH 4526은 반도체 웨이퍼 처리를 위해 설계된 에처/애셔입니다. 이 다목적 기기는 포토 esist, metals, oxides, nitride 등을 포함한 다양한 재료를 에칭하고 부착 할 수 있습니다. 패터닝 (patterning), 도핑 (doping) 등과 같은 응용 프로그램 배열에 사용되는 다용도 도구입니다. 이 시스템에는 최대 385 ° C의 최대 온도 범위에서 직경 200mm (200mm) 의 웨이퍼를 처리 할 수있는 2 개의 강력한 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. 이 기계는 또한 고급 온도 조절 (temperate control) 및 균일성 모니터링 (unifority monitoring) 을 통해 사용자가 정확한 샘플을 가열하거나 식힐 수 있습니다. 또한 4526에는 고속 다운 스트림 로봇 간트리 (Gantry) 가 장착되어 있어 빠르고 안정적인 재료 전송이 가능합니다. 이 시스템에는 결함 추적 (Defect Tracking), 자동 챔버 클리닝 (Automatic Chamber Cleaning) 과 같은 고급 소프트웨어 기능과 함께, 에칭 및 애싱 프로세스를 다른 기판에 조정하는 데 사용할 수있는 다양한 프로세스 레시피가 제공됩니다. 이를 통해 사용자는 각 응용 프로그램에 대해 사용자 지정 에치 (etch) 레시피를 작성할 수 있으므로 우수한 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 유연성으로 인해 LAM RESEARCH 4526은 광범위한 생산 프로세스에 적합합니다. 이 기계는 웨이퍼 처리량 최적화, 수율 증가, 오염 감소 등을 위해 설계되었습니다. 또한, 강력한 제어 제품군과 직관적인 소프트웨어는 시스템의 다양성과 사용자 친화성을 크게 향상시킵니다. 이는 연구 및 산업 응용 프로그램 모두에 적합한 선택입니다. 전체적으로, 4526은 신뢰할 수 있고 다재다능한 etcher/asher로, 사용자의 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 고급 기능은 고성능 (HPP) 과 함께 모든 웨이퍼 처리 실험실 (Wafer Processing Laboratory) 에 대해 현명한 선택이 가능합니다.
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