판매용 중고 LAM RESEARCH 4520 #9167744
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판매
ID: 9167744
Oxide etchers, 8"
With auto load tape
Tool type: R/B 4520
Bulkhead
Short frame
Indexer type:
Send: Standard
Receive: SAMSUNG (SW2-Mco5086)
Control system
Envision
Remote AC box, P/N: 685-029442-031
ADVANCED ENERGY PDW-2200 Generator
Autotune
Ceramic ESC
Clamped system: ESC
Upgraded variable gap: Optical
Monochrometer: Dual
Dual monochrometer: Single
Upgraded load station
AC Box, P/N: 853-017200-002
Orbital (Extend)
MFC #1 / UFC-8160, Ar / 1 slm
MFC #2 / CF4 / 100 sccm
MFC #3 / CF3 / 50 sccm
MFC #4 / N2 / 200 sccm
MFC #5 / OZ / 30 sccm
MFC #6 / Ar / 200 sccm
Helium cooling: V90, V92
Connectors: Plastic type
Heartbeat PCB, P/N: 810-017012-002
Bulkhead / Ballroom components
Covers
Indexers
Load station
ELL
Gap drive system
Chamber
XLL
Gas box
AC / DC Box
Control enclosure
Generator cart / On board
Upper and lower match enclosure
Pressure control
Operating system
PLC and Signal tower: 3-Colors.
LAM RESEARCH 4520은 기술 프로세스에 대한 강력하고 신뢰할 수있는 고급 원자로 에처/애셔입니다. 고성능 에칭 및 깊은 반응성 이온 에칭 (RIE) 을 제공하는 혁신적인 디자인으로, 딥 트렌치 에칭, 듀얼 다마신 에칭, 컨택트 홀 에칭 등 다양한 에칭 프로세스에 이상적입니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 모듈식 설계, 여러 프로세스 챔버 및 높은 유연성을 제공하여 추가 시스템 재설계 없이도 웨이퍼링 통합 프로세스를 확장 할 수 있습니다. 소형 설치 공간을 갖추고 있어 대부분의 클린 룸 (cleanroom) 구성을 손쉽게 설치할 수 있습니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 정밀 프로세스 제어 기능과 지능형 하드웨어 기능을 갖추고 엄격한 프로세스를 효과적으로 자동화합니다. 이중 실행 (Dual Run) 기능을 지원하며 로드 잠금 (Load-Lock) 클로닝을 지원하여 열 예산을 최소화하고 장기 실행을 지원합니다. 4520 의 가스 제어 장치 (gas control unit) 는 전체 범위의 진단 및 분석 소프트웨어와 통합되어 정확한 온도 및 압력 조절을 제공합니다. 가열선· 전극· 자가 진단 (self-diagnostic) 오차 (error system) 를 갖춘 첨단 강력한 제어장치를 탑재해 장비의 신뢰성이 높다. LAM LAM RESEARCH 4520의 플라즈마 소스는 작동 효율이 높고 플라즈마 밀도가 높은 최첨단 전원 공급 장치로 구동됩니다. 에칭 프로세스에서 높은 선택성에 도달할 수 있으며, 패턴화된 마스크의 프로파일을 유지합니다. 원자로 (reactor) 는 비용이 적은 공정 과잉 및 에지 비딩 (edge-beading) 을 통해 좋은 에치 균일성과 뛰어난 스텝 커버리지를 제공합니다. LAM 4520은 에칭 또는 애싱 프로세스를 완성하는 고도의 고급 에처/애셔입니다. 이 제품은 사용자에게 완벽한 정밀 제어 및 자동화, 유연한 통합 프로세스, 높은 신뢰성을 제공하여 최적의 Wafer 처리 성능을 제공합니다.
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