판매용 중고 LAM RESEARCH 4520 #9145513

LAM RESEARCH 4520은 반도체 장치 생산을 위해 설계된 강력한 플라즈마 에처/애셔입니다. 이 장비에는 단일 챔버가 장착되어 있어 효율적이고 반복 가능한 에치 (etch) 프로세스가 가능합니다. 이 공정 챔버에는 다이아몬드-메탈 하이브리드 쉴드 (hybrid shield) 디자인이 있으며 저전력 및 고전력 어플리케이션이 모두 가능합니다. 4520에는 플라즈마 전원, 온도, 압력과 같은 매개변수를 조정하고 저장할 수있는 디지털 컨트롤러가 있습니다. 이 에처는 이더넷을 통해 연결된 PC를 통해 제어되며, 사용자에게 친숙한 프로그래밍 및 온보드 레시피 개발을 지원합니다. 안전 기능이 추가된 LAM 리서치 4520 (LAM RESEARCH 4520) 에는 경보가 발생했을 때 장치를 원격으로 종료 할 수있는 통합 안전 시스템이 있습니다. 4520에는 원격 진단 도구, 비활성 가스 재순환 기계, 자동 웨이퍼 전송 도구 (automatic wafer transport tool) 등 etch 프로세스를 개선하기위한 다양한 액세서리가 있습니다. 또한, 자산에는 일관된 웨이퍼 처리 및 반복 가능한 결과를 보장하기 위해 자동화된 엔드 포인트 감지 모델이 있습니다. LAM RESEARCH 4520은 에칭을 위해 할로겐 또는 질소 기반 플라즈마 화학을 사용합니다. 폴리머, SiO2, Si3N4, PECVD 레이어 및 금속 층을 포함하여 에치 할 수있는 광범위한 재료가 있습니다. 장비는 분당 최대 1000 옹스트롬의 속도로 구리를 에치 할 수도 있습니다. 에칭 기능 외에도 4520은 고 종횡비 및 이방성 에칭에도 사용될 수 있습니다. 또한 개선된 장치 처리에 사용할 수있는 백 사이드 랩핑 (back-side lapping) 및 트렌치 (trenching) 기능을 제공합니다. 전반적으로, LAM RESEARCH 4520은 유연하고 신뢰할 수있는 etcher/asher 시스템이며, 최고 품질의 반도체 장치를 생산하기 위해 완벽한 선택입니다. 이 장치는 강력하고 사용자 친화적이며, 반복 가능하고 일관된 결과를 보장하며, 대용량 운영 애플리케이션에 적합합니다.