판매용 중고 LAM RESEARCH 4520 #293595659

LAM RESEARCH 4520은 유전체, 폴리 이마이드, 유리, 금속 및 실리콘을 포함한 다양한 재료를 에칭 또는 분쇄 할 수있는 단일 웨이퍼, 저압, 플라즈마 활성화로 구성된 에처/애셔입니다. 6 인치 웨이퍼 (Wafer) 크기의 용량을 갖춘 소형 장비로, 높은 수준의 정확성, 반복성, 프로세스 유연성을 제공하여 비용과 시간이 많이 소요되는 장비 변경을 줄여줍니다. 이 시스템은 저압, 플라즈마 활성화 프로세스 (plasma activation process) 를 특징으로하며 표면 오염을 줄이고 고품질, 이방성 에치 레이트 (etch rate) 및 깊이 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 4520은 또한 에너지 효율 장치 (energy efficient unit) 이며, 에치 프로세스의 완전한 균일성과 제어를 보장하기 위해 폐쇄 루프 프로세스 제어 머신 (closed-loop process control machine) 이 장착되어 있습니다. 또한 고성능 에치/애쉬 사이클 및/또는 플라즈마 트리트먼트를위한 고출력 마이크로 파 소스가 포함되어 있습니다. 이 툴에 포함된 독보적인 DART (Dynamic Etch Rate Control) 기술은 Etch 프로세스를 통해 Plasma 및 Unifority를 안정화시켜 Etch가 진행하는 속도를 모니터링하고 제어할 수 있도록 설계되었습니다. 이렇게 하면 프로세스 요구 사항에 관계없이 최고 품질의 부품이 생성됩니다. 또한 CPV (Closed-loop Process Validation) 기능을 사용하면 새로운 레시피, 신속한 자본 회수 및 전반적인 프로세스 최적화를 빠르고 쉽게 채택할 수 있습니다. 자산은 다양한 웨이퍼 (wafer) 유형과 다양한 재료를 처리 할 수 있으며, 다양한 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 등급을 허용합니다. 사용자 친화적인 GUI 를 통해 고객의 애플리케이션 요구 사항에 맞는 맞춤형 etch/ash 레시피를 사용할 수 있습니다. etcher/asher는 배치 또는 연속 모드에서 사용할 수 있습니다. LAM RESEARCH 4520 은 탁월한 통신/지원 서비스를 경쟁력 있는 가격으로 지원하므로, 고객 만족도를 극대화할 수 있습니다.