판매용 중고 LAM RESEARCH 4520 XL #9292773

LAM RESEARCH 4520 XL Asher/Etcher는 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 고급 장치입니다. 이중 챔버 장비이며, 습식 및 건식 에칭 공정 모두에 적합합니다. 이 시스템의 일반적인 작업에는 금속 에칭, 확산 처리, 수정 에칭 등이 있습니다. 이 단위 는 매우 정밀도 와 정확도 가 높은 "실리콘 '," 알루미늄' 및 기타 금속 합금 을 증착 하고 식각 하는 데 사용 될 수 있다. LAM RESEARCH 4520XL은 고유 플라즈마 프로세스를 사용하여 에치 깊이를 정확하게 제어하여 광범위한 응용 프로그램을 지원합니다. 플라즈마 데스 머링 (desmearing) 및 금속 저항 어닐링 (metal resistor annealing) 과 같은 정교한 내장 기능을 통해 복잡한 제품 구조를 쉽게 만들 수 있습니다. 이 기계는 또한 다양한 재료를 처리 할 수있는 유연한 챔버 (chamber) 설계를 특징으로합니다. 4520 XL에는 다양한 고급 피드백 및 제어 시스템이 있으며, 이를 통해 전체 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 여기에는 웨이퍼 물리 및 화학 상태 (wafer physical/chemical states) 의 실시간 시각화 및 전체 범위 프로세스 시뮬레이션 실행 기능이 포함됩니다. 따라서 각 에칭 작업의 일관성을 유지하는 것이 더 쉽고, 처리 시간이 더 빨라집니다. 또한 4520XL에는 에칭 깊이와 너비를 측정하는 통합 레이저 기반 비드 프로파일링 도구가 있습니다. 이렇게 하면, 에칭 깊이를 정확하게 제어할 수 있고, 원하는 경우 기판 프로파일이 향상됩니다. 이 자산은 또한 3 계층 원격 모니터링 (3 Tier Remote Monitoring) 기능을 사용하여 사용자는 모델의 내부 데이터를 원격으로 액세스하여 프로세스 문제를 쉽게 해결할 수 있습니다. LAM RESEARCH 4520 XL은 또한 프로세스 변경에 대한 향상된 적응성을 제공하며, 각 작업 동안 미세 조정 매개 변수에 대한 확장 된 레시피 옵션을 제공합니다. 이를 통해 에치 프로세스를 최적화하고 귀중한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장비에는 에지 (edge) 제외 기능이 내장되어 있어 에지 (edge) 제거에 소요되는 시간과 비용을 절약할 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH 4520XL은 반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계된 고도의 에칭 시스템입니다. 이 장치는 견고한 설계 (design) 와 고급 제어 (advanced control) 기능을 통해 빠르고 정확한 결과를 얻어 모든 산업 운영에 귀중한 자산입니다.