판매용 중고 LAM RESEARCH 4420 #9281634

LAM RESEARCH 4420은 반도체 처리를위한 고급 에처이자 애셔입니다. 산업용으로 설계되었으며, 속도와 정확도를 결합하여 반도체 부품을 제작하는 데 도움이되었습니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 작업을 단순화하고 설치 시간을 단축할 수 있습니다. 4420 의 유연성 (Flexibility of 4420) 을 통해 다양한 기판과 호환되므로 사용자는 프로세스를 보다 정확하고 효율적으로 최적화할 수 있습니다. 5 인치 플라즈마 소스, 20 채널 공정 제어 장비 및 2 개의 40-W 조절 제한 계량 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 견고한 구성과 첨단 기술 덕분에 뛰어난 안정성을 제공합니다. 이 장치 는 열 손실 을 최소화 하고, 가능 한 최대 의 수율 을 달성 하는 데 필요 한 열 "사이클 '의 수 를 최소화 하도록 설계 되었다. LAM RESEARCH 4420은 유연한 빔 모니터를 사용하여 여러 웨이퍼를 한 번에 균일하게 처리합니다. 그 에 더하여, 기계 에는 반응물 과 온도 수준 의 흐름 을 감시 하는 일련 의 "센서 '가 장착 되어 있다. 이렇게 하면 프로세스가 효율적으로 작동하고, 열을 빠르게 소실하고, 오류를 최소화할 수 있습니다. 4420은 또한 기질의 화학 성분을 측정하기위한 고급 탐지 시스템을 특징으로합니다. 이렇게 하면 공구가 기판 표면에 있는 박막 (thin film) 의 두께를 정확하게 측정할 수 있습니다. 또한 기판에 존재할 수있는 오염을 감지하는 데 도움이됩니다. 마지막으로 LAM RESEARCH 4420에는 모듈식 구성 자산이 있습니다. 이 모델을 사용하면 특정 응용 프로그램에 대한 프로세스 매개변수를 사용자정의할 수 있습니다. 다중 단계 프로세스 제어 (multi-step process control) 기능을 사용하여 한 단계에서 여러 병렬 처리 작업을 완료할 수 있습니다. 전체적으로 4420은 산업 응용 분야를 위해 설계된 고급 에처 및 애셔입니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 자랑하며, 속도와 정확도를 제공하는 반면, 고급 감지 시스템 (Advanced Detection System) 과 모듈식 구성 장비 (Modular Configuration Equipment) 를 통해 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다.