판매용 중고 LAM RESEARCH 4420 #199860
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ID: 199860
웨이퍼 크기: 8"
TCP oxide etch system, 8"
Can be converted to 6"
Mounting: bulkhead
Software: Envision 1.52
Indexers: HINE
AC box: -002
Gas box: orbital welded
Clamping: non-clamp
Backside helium: n/a
Generator: OEM 650
RF match: mini match
Endpoint: endpoint detector
MFCs: unit 1660
Gas config:
Gas 1: HBR 200
Gas 2: CL2 200
Gas 3: SF6 500
Gas 4: C2F6 500
Gas 5: HE 500
Gas 6: O2 100.
LAM RESEARCH 4420은 화학 증기 증착 (CVD) 및 에칭 공정을 위해 설계된 에처/애셔입니다. 여기에는 4 개의 동시 챔버가 있으며, 이를 통해 사용자는 효율적인 화학 가공 작업을 위해 2 개의 에치 (etch) 와 2 개의 증착 공정을 실행할 수 있습니다. 이 모델은 금속, 플라스틱, 도자기 및 접착제를 포함한 다양한 에치 및 증착 프로세스에 적합합니다. 4420 은 다용도, 사용자 친화적 인터페이스를 제공하여 손쉽게 장비를 프로그래밍, 모니터링, 제어할 수 있습니다. LAM RESEARCH 4420 etcher/asher에는 이중 구획 환형 챔버 및 RF/DC 전원 공급 장치가 장착되어 있으므로 응용 요구 사항에 맞게 다양한 플라즈마 특성을 생성 할 수 있습니다. 방은 "6" 보다 큰 웨이퍼 크기를 수용 할 수 있으며, 더 큰 증착 영역을 가능하게합니다. 이 모델의 온도 능력은 최대 450 ° C이며 Ar, N2, Oxygen, SF6 및 CH4를 포함한 다양한 공정 가스와 함께 사용할 수 있습니다. 모델은 로드 잠금 챔버 (load-lock chamber) 로 설계되어 챔버에서 웨이퍼를 자동으로 로드 및 언로드할 수 있습니다. 이 기능은 로드 및 언로드 시간을 줄이고, 생산성을 향상시키는 데 도움이 됩니다. 4420은 또한 독특한 2 개의 머신 시스템을 갖추고 있으며, 별도의 레시피로 2 개의 웨이퍼 배치를 독립적으로 처리 할 수 있습니다. 즉, 운영자에게 보다 많은 제어 권한을 부여하고 운영 요구에 더욱 유연하게 대처할 수 있습니다. LAM RESEARCH 4420은 기계 작동을 단순화하도록 설계된 LAM RESEARCH PROCESS Expert Unit (XPES) 소프트웨어 제품군으로 구동됩니다. 사용자는 XPES 소프트웨어를 통해 프로세스를 손쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있으며, 이를 통해 레시피, 설정 시간, 프로세스 조건을 제어할 수 있습니다. 또한 XPES 는 다양한 진단/보고 (diagnostic and reporting) 기능을 제공하여 모든 툴 문제를 신속하게 파악하고 그에 따라 문제를 해결할 수 있습니다. 또한 XPES 소프트웨어는 다양한 업계 표준 데이터 형식 (data format) 및 운영 체제 (operating system) 와 호환되므로 기존 네트워크에 통합하는 데 이상적인 자산입니다. 4420 은 프로그래밍과 제어가 용이한 안정적인 에칭 (etching) 및 증착 솔루션을 제공하도록 설계되었습니다. 듀얼 챔버 디자인 (Dual-Chamber Design) 과 고효율 프로세스 챔버 (High-efficient Process Chamber) 는 다양한 옵션을 제공하며 다양한 어플리케이션을 지원합니다. 사용자 친화적인 XPES 소프트웨어 제품군을 사용하면 모델 운영을 단순화할 수 있으며, 모든 문제를 신속하게 파악할 수 있으며, 신속하게 고품질 (High-Quality) 결과를 얻을 수 있습니다.
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