판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Versys #9007779

LAM RESEARCH 시리즈 LAM RESEARCH 2300 Versys는 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 정교한 에칭/어칭 장비입니다. 이 시스템은 다양한 프로세스 모듈 (process module) 을 통해 최신 반도체 장치 생산에서 중요한 에칭 (etching) 및 어칭 (asching) 작업을 수행할 수 있습니다. 2300 Versys는 신뢰성이 높고 견고한 프로세스 챔버와 지능형 컨트롤을 갖추고 있습니다. 이 공정 챔버 (process chamber) 는 밀봉되어 있으며, 에칭 및 애스칭 재료를위한 깨끗하고 순수한 환경을 보장하기 위해 외부 대기에 노출되지 않습니다. 또한, 챔버 (chamber) 는 질소 기반 배관 장치를 통합하여 챔버 전체에 공정 가스의 아음속 분포를 가능하게하여 재료의 균일 한 증착을 제공한다. LAM RESEARCH 2300 Versys의 고급 원격 플라즈마 소스 및 반응성 이온 에칭 기능을 통해 에칭 속도, 패턴, 에칭 크기 및 균일성, 로드 및 제거에 대한 고정밀 제어를 지원합니다. 또한, 멀티 챔버 대피 및 백필 (backfill) 기능을 통해 부산물을 완전히 격리시켜 오염을 줄일 수 있습니다. 또한, 시스템의 자동화된 프로세스 제어 (automated process control) 기능을 통해 수동 튜닝 없이 신속하게 설치 및 변경을 수행할 수 있습니다. 또한, 포괄적인 프로세스 모니터링 및 진단 기능, 프로세스 수익률, 품질, 향상된 안정성, 가용성 등을 제공합니다. 또한 2300 Versys 의 APCC (Advanced Process Control Computer) 를 사용하면 프로세스 레시피 매개변수 및 결과를 완벽하게 추적 및 기록할 수 있으며, 실시간 데이터 획득 및 조작 기능을 제공합니다. 또한 APCC (Integrated Power Supplies) 와 메인프레임 (Mainframe) 은 다양한 모듈을 통해 다양한 프로세스 툴과 상호 작용할 수 있습니다. 결론적으로 LAM RESEARCH 2300 Versys는 정교한 프로세스 제어 및 모니터링 기능을 갖춘 고급 에칭/어칭 도구입니다. 신뢰성이 높고 견고한 프로세스 챔버 (process chamber) 와 지능형 제어 (intelligent control) 기능을 갖춘 이 자산은 효율적이고 안정적인 에칭 및 어칭을 제공합니다. 또한, 이 다목적 플랫폼은 많은 생산 도구를 강화하여 현대 반도체 생산 요구에 적합합니다.