판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Versys Poly #9158592

ID: 9158592
Poly etcher EFEM: Part no Load port (1): 002-7200-33 Load port (2): 002-7200-33 Load port (3): 002-7200-29 Atm robot: Yes Wafer alignment: Yes Power control rack: AC Rack: Model no: 2300 Vintage: 2007 Rear user interface monitor: Yes Robot controller: No P/C: Yes Vacuum TM: Airlock (Right): Yes Airlock (Left): Yes VTM Robot: No TM / PM Facility lines: Yes Slop valve load lock (Right): Yes Slop valve load lock (Left): Yes Vacuum TM: Part no Inner door Assy (Air lock right): 853-007851-232 Inner door Assy (Air lock left): 853-007851-232 Inner door Assy (PM2): 853-007859-925 Inner door Assy (PM3): 853-007859-212 Inner door Assy (PM4): 853-007859-223 Process module: PM1: 2300 Poly: Model no: 2300 poly TCP match: Yes TCP coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-30584 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: No AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes Turbo pump: Yes (ATM2800M) VME Assembly: Yes VAT Pendulum valve: Yes Foreline assy: No He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM2 Turbo controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM1: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes MFC 11_HE: Yes MFC 12_CHF3: Yes RPDB Power box: Yes Process module: PM2: 2300 Poly: Model no: 2300 poly Vintage: 2007 TCP match: Yes TCP Coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-23747 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: Yes AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: No Turbo pump: Yes (ATM2300M) VME Assembly: Yes VAT pendulum valve: Yes Foreline assy: Yes He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM3 Turbo Controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM2: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes Process module: PM3: 2300 Poly: Model no: 2300 poly Vintage: 2007 TCP match: Yes TCP Coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-23747 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: No AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes Turbo pump: Yes (ATM2800M) VME Assembly: Yes VAT Pendulum valve: Yes Foreline assy: No He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM4 Turbo controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM3: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes MFC 11_HE: Yes MFC 12_CHF3: Yes Vintage: 2007.
LAM RESEARCH 2300 Versys Poly는 뛰어난 처리량, 효율성 및 정확성을 위해 설계된 고급 에칭 (애싱) 장비입니다. 이 장비 는 "플라즈마 '기술 을 사용 하여" 실리콘 웨이퍼' 를 에칭 하기 위한 완전 한 자동화 장치 이다. 2300 Versys Poly는 모든 에칭 작업에 대한 품질과 안정성을 제공하는 다양한 기능을 제공합니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly에는 4 인치 공정 챔버와 2 인치 딥 에치 기능이 장착되어 최대 7 um 수준의 웨이퍼 에칭이 가능합니다. 최고 표준을 고려하여 제작되었으며, 모든 에치 레시피 (etch recipe) 에 대한 데이터 포인트를 캡처하여 품질 관리 및 프로세스 반복성을 보장합니다. 이 장치는 또한 0.6 sccm/min의 최대 플라즈마 연료 믹스 (plasma fuel mix) 기능을 특징으로하며, 각 에칭 작업에 최적화되어 효율성과 처리량을 극대화하고 다양한 프로세스 레시피를 입력 할 수 있습니다. 레시피는 내장 레시피 관리자를 통해 저장, 추적 및 액세스 할 수 있습니다. 이 기계는 산화물 에칭 (oxide etching) 및 웨이퍼 패턴 (wafer patterning) 과 같은 다양한 에칭 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 개방형 이온 소스 디자인 (open field ion source design) 을 통해 사용자는 다양한 에너지에서 이온 밀 전류를 모니터링 할 수 있습니다. 또한 프로세스 전반에 걸쳐 최적의 웨이퍼 온도 조절 (wafer temperature control) 을 유지하여 일관된 에칭 성능을 보장합니다. 2300 Versys Poly는 또한 레이저 광 산란을 사용하여 정확한 에치 스톱 (etch stop) 측정을 제공하는 매우 민감한 엔드 포인트 감지 도구를 갖추고 있습니다. 이 기능은 정확도가 중요한 중요한 에칭 애플리케이션에 유용합니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly (Versys Poly) 는 디지털 이미징 기능과 직관적인 제어 인터페이스를 통해 사용자 친화적이고 작동이 간편하도록 설계되었습니다. 이 자산은 또한 신뢰성이 높으며 최신 산업용 등급 (Industrial Grade) 구성 요소로 구축되어 신뢰성 및 운영 비용 절감 효과를 제공합니다. 2300 Versys Poly (Versys Poly) 는 다양한 기능을 결합하여 다양한 에칭 어플리케이션에 뛰어난 처리량, 효율성 및 정확성을 제공하는 고급 에칭 모델입니다. 이 장비는 가장 까다로운 에칭 (etching) 요구를 충족시켜 많은 산업용 어플리케이션에 안정적이고 일관된 결과를 제공하도록 설계되었습니다.
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