판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Versys Poly #9158592
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ID: 9158592
Poly etcher
EFEM: Part no
Load port (1): 002-7200-33
Load port (2): 002-7200-33
Load port (3): 002-7200-29
Atm robot: Yes
Wafer alignment: Yes
Power control rack:
AC Rack:
Model no: 2300
Vintage: 2007
Rear user interface monitor: Yes
Robot controller: No
P/C: Yes
Vacuum TM:
Airlock (Right): Yes
Airlock (Left): Yes
VTM Robot: No
TM / PM Facility lines: Yes
Slop valve load lock (Right): Yes
Slop valve load lock (Left): Yes
Vacuum TM: Part no
Inner door Assy (Air lock right): 853-007851-232
Inner door Assy (Air lock left): 853-007851-232
Inner door Assy (PM2): 853-007859-925
Inner door Assy (PM3): 853-007859-212
Inner door Assy (PM4): 853-007859-223
Process module:
PM1:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
TCP match: Yes
TCP coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-30584
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: No
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes
Turbo pump: Yes (ATM2800M)
VME Assembly: Yes
VAT Pendulum valve: Yes
Foreline assy: No
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM2
Turbo controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM1:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
MFC 11_HE: Yes
MFC 12_CHF3: Yes
RPDB Power box: Yes
Process module:
PM2:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
Vintage: 2007
TCP match: Yes
TCP Coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-23747
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: Yes
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: No
Turbo pump: Yes (ATM2300M)
VME Assembly: Yes
VAT pendulum valve: Yes
Foreline assy: Yes
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM3
Turbo Controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM2:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
Process module:
PM3:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
Vintage: 2007
TCP match: Yes
TCP Coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-23747
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: No
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes
Turbo pump: Yes (ATM2800M)
VME Assembly: Yes
VAT Pendulum valve: Yes
Foreline assy: No
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM4
Turbo controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM3:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
MFC 11_HE: Yes
MFC 12_CHF3: Yes
Vintage: 2007.
LAM RESEARCH 2300 Versys Poly는 뛰어난 처리량, 효율성 및 정확성을 위해 설계된 고급 에칭 (애싱) 장비입니다. 이 장비 는 "플라즈마 '기술 을 사용 하여" 실리콘 웨이퍼' 를 에칭 하기 위한 완전 한 자동화 장치 이다. 2300 Versys Poly는 모든 에칭 작업에 대한 품질과 안정성을 제공하는 다양한 기능을 제공합니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly에는 4 인치 공정 챔버와 2 인치 딥 에치 기능이 장착되어 최대 7 um 수준의 웨이퍼 에칭이 가능합니다. 최고 표준을 고려하여 제작되었으며, 모든 에치 레시피 (etch recipe) 에 대한 데이터 포인트를 캡처하여 품질 관리 및 프로세스 반복성을 보장합니다. 이 장치는 또한 0.6 sccm/min의 최대 플라즈마 연료 믹스 (plasma fuel mix) 기능을 특징으로하며, 각 에칭 작업에 최적화되어 효율성과 처리량을 극대화하고 다양한 프로세스 레시피를 입력 할 수 있습니다. 레시피는 내장 레시피 관리자를 통해 저장, 추적 및 액세스 할 수 있습니다. 이 기계는 산화물 에칭 (oxide etching) 및 웨이퍼 패턴 (wafer patterning) 과 같은 다양한 에칭 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 개방형 이온 소스 디자인 (open field ion source design) 을 통해 사용자는 다양한 에너지에서 이온 밀 전류를 모니터링 할 수 있습니다. 또한 프로세스 전반에 걸쳐 최적의 웨이퍼 온도 조절 (wafer temperature control) 을 유지하여 일관된 에칭 성능을 보장합니다. 2300 Versys Poly는 또한 레이저 광 산란을 사용하여 정확한 에치 스톱 (etch stop) 측정을 제공하는 매우 민감한 엔드 포인트 감지 도구를 갖추고 있습니다. 이 기능은 정확도가 중요한 중요한 에칭 애플리케이션에 유용합니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly (Versys Poly) 는 디지털 이미징 기능과 직관적인 제어 인터페이스를 통해 사용자 친화적이고 작동이 간편하도록 설계되었습니다. 이 자산은 또한 신뢰성이 높으며 최신 산업용 등급 (Industrial Grade) 구성 요소로 구축되어 신뢰성 및 운영 비용 절감 효과를 제공합니다. 2300 Versys Poly (Versys Poly) 는 다양한 기능을 결합하여 다양한 에칭 어플리케이션에 뛰어난 처리량, 효율성 및 정확성을 제공하는 고급 에칭 모델입니다. 이 장비는 가장 까다로운 에칭 (etching) 요구를 충족시켜 많은 산업용 어플리케이션에 안정적이고 일관된 결과를 제공하도록 설계되었습니다.
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