판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9301851
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ID: 9301851
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2016
Etcher, 12"
Seismic brackets system
SEMI Wafer
Cassette type: 25-Slots
Gas system type: IGS Gas box
Mylar floor template
Manuals electronic CD-ROM
Positions:
Position 1: 2300 Microwave strip
Position 2 and 3: 2300 Versys Kiyo
Non-standard systems:
NSR300156 Kiyo
NSR301982 RMV Kiyo PM Position-4
Process modules:
(2) Quick clean kits for 2300 Versys Kiyo
(1) Quick clean kit for 2300 MW Strip
Options:
Standard chamber pinnacle (-814)
Tunable ESC Wafer clamping mechanism
Standard fingers RF Ground bracket (-006)
Quartz edge ring
Standard Quartz tunable injector
Standard injector shield
Standard plasma screen (-032)
Gas weldment: Enhanced passivated (-110)
Standard ESC Hose kit
Compression ESC Facility plate
Liner: ACME Coated universal (-838)
Standard chamber manometer
Wafer lift mechanism: Direct drive
Voltage control interface: 800 V
O-rings: Chemraz
Standard TCP Coil
TCP Source dual: 1500 W
300MM Turbo pump: 2200 L/S BOCE (Seiko Seiki)
Heated foreline
Endpoint detection: 2300 LSR with OES 2
Standard chamber viewport window
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Viton vacuum valve
Lower isolation valve: Chemraz dry (-006)
Water control passive:
RF PCW Control
Pump to TCU: 25ft
TCU to PM: 50ft
PM to Pump interconnect: 50ft
TCU to RPDB: 25ft
Pump to RPDB: 25ft
Microwave strip options:
O-rings: Fluorosilicon / TEV
Microwave source: Quartz
Baffle: Quartz
Leak check port
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Throttle valve (-003)
2-Line on-board gas delivery
PM to Pump interconnect: 50ft
Pump to RPDB: 25ft
Gas box:
Standard gas containment
Top exhaust gas system
Gas box:
Advanced chamber condition control
MFC Type: STEC SEC-Z313
No display in transducer
(16) Gas lines
Heated gas lines: Position 1 and 2
Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel
Standard gas filter
Non-standard PM/GB Feature:
(2) FUJIKIN NSR 301983 MFC on PM4 IGSGB <PM4>
Line6 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, SO2 at 200sccm
Line16 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, Ar at 500sccm
2300 Platform
Standard front fascia
Front end load port cassette: (3) FOUPs
Cassette ID: Keyence BCR Carrier ID
Factory automation: OHT PIO Sensor
Airlock wafer fingers: Stainless wafer pads
EPX Backing pumps for TM
Control rack configuration:
Side monitor user interface
Earth Leakage Breaker (ELB)
RPDB
Interconnect cables: TM to RPDB, 50ft
Signal tower
System options:
System calibration and alignment
Service step for PM
Robot CDM
Non-Standard TM Feature:
NSR6975 Facility IF board kit and SW Key
NSR101080 Vespel endeffector on V2 TM
Gas box configuration:
PM2:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
PM3:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
PM4:
Line / MFC Type / Gas type / Gas flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
2016 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo는 실리콘 단일 결정 박막 증착, 고급 사진 촬영 및 표면 긁힘 수리와 같은 응용 분야를 위해 특별히 설계된 다용도 및 효율적인 에칭 장비입니다. 이 시스템은 플라즈마 에칭, Dry-Oxide 증착, 에칭 및 저항 증착과 같은 고급 기술을 갖춘 고급 에처/애셔입니다. 2300 Versys Kiyo는 20kHz 플라즈마 입력 주파수를 특징으로하며, 신뢰할 수있는 에칭 프로세스를 위해 광범위한 프로세스 가스를 제공합니다. 완전자동 머신 (Full Automatic Machine) 으로, 웨이퍼를 로드하여 결과를 언로드할 때 전체 프로세스를 관리합니다. 정확하고 반복 가능한 결과를 얻기 위해, 에처는 자동 웨이퍼 처리 장치 (automatic wafer handling unit) 와 내장 진공 챔버 (built-in vacuum chamber) 를 갖추고 있습니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo (Versys Kiyo) 는 또한 최신 현장 이미지 처리 및 고급 프로세스 제어를 통해 사용자가 프로세스를 모니터링하고 즉석에서 신속하게 변경할 수 있습니다. 일관성 있고 정밀도가 높은 결과를 얻기 위해 기계에는 6 축 틸트 및 2 축 요 포지셔너가 장착되어 있습니다. 또한 제어 대기 공정을 사용하여 에칭하기위한 선택적 인 실내 이온 소스를 제공합니다. 2300 Versys Kiyo (Versys Kiyo) 는 첨단 기능과 내구성이 뛰어나고 안정적인 구조로 다양한 까다로운 에칭 및 애싱 어플리케이션을 위한 탁월한 선택입니다. 이 도구는 엄격한 안전 표준 (Safety Standard) 에 대한 인증을 받았으며, 에칭 프로세스 동안 추가적인 보호 계층을 제공하는 장애 안전 (Fail-Safe) 자산을 갖추고 있습니다. 또한 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo는 높은 효율성과 빠른 처리 속도 (turnaround) 를 통해 제품 설계의 빠른 프로토 타이핑 및 빠른 개발에 이상적입니다.
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