판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9152530
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ID: 9152530
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2009
Metal etcher, 12"
Loadport: SMIF (EFEM)
Metal core tool
Process chamber:
(2) Metal etchers
(2) MWAVE Strips
SMIF:
Signal tower: (3) Colors
(3) Load ports, 799-901175-004
ATM Robot, P/N: 151864
Buffer station: (25) Slots
Aligner
Transfer chamber:
Load lock: (2) LL / (4) Slot cool chambers
Model of transfer robot: Megatran7 / Brooks
Parts no. of rocker valve: (4) 853-007859-9223
TM Pressure gauge: HPS Series 907 / MKS
TM Pressure control: MKS Series 640
LL Pressure gauge: Hasting
Etch chamber:
PM2 & PM3:
pressure gauge: MKS, 0.1 Torr
Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
Turbo pump: ATH2300M / Alcatel
TCP RF generator: APEX2013 / AE
Bias RF generator: APEX1513 / AE
MW Chamber:
PM1 & PM4:
Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR
Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
MW Generator: Revolution, 7690LAM-23
Configuration of MFC:
Ar 2SLM
O2 5SLM
N2 1SLM
Gas panel, etch chamber:
PM2:
Type of gas panel: 16-Line IGS gas box
Type: Block
16-Gas channels
MFC: SFC2480FAAPD2
Configuration of gas:
O2 20 SCCM
NF3 150/500 SCCM
CF4 60/200 SCCM
SF6 60/200 SCCM
HBr 30/100 SCCM
CH2F2 6/20 SCCM
SiCl4 20 SCCM
SiCl4 60/200 SCCM
CHF3 30/100 SCCM
Ar 150/500 SCCM
N2 60/200 SCCM
Cl2 15/50 SCCM
O2 150/500 SCCM
BCl3 50/200 SCCM
CF4 15/50 SCCM
Cl2 150/500 SCCM
PM3:
Type of gas panel: 16-Line IGS gas box
Type: Block
16-Gas channels
Model of MFC: SFC2480FAAPD2
Configuration of gas:
O2 20 SCCM
NF3 150/500 SCCM
CF4 60/200 SCCM
SF6 60/200 SCCM
HBr 30/100 SCCM
CH2F2 6/20 SCCM
SiCl4 20 SCCM
SiCl4 60/200 SCCM
CHF3 30/100 SCCM
Ar 150/500 SCCM
N2 60/200 SCCM
Cl2 15/50 SCCM
O2 150/500 SCCM
BCl3 50/200 SCCM
CF4 15/50 SCCM
Cl2 150/500 SCCM
Power: 208 VAC, 3 phase, 4 wires, 400 A, 50 / 60 Hz
2009 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo는 고급 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 에처/애셔 장비입니다. 고급 온도 조절, 정밀 압력 모니터링, 프로세스 유연성 향상 등을 제공합니다. 버시스 키요 (Versys Kiyo) 는 무기 및 유기 물질을 포함하여 다양한 기질 및 재료를 에치 앤 애셔 할 수 있습니다. 이온화 된 플라즈마 모드와 이온화되지 않은 플라즈마 모드를 모두 갖추고 있어 프로세스 유연성을 극대화합니다. 이 시스템에는 전용 디지털 이미지 처리 모듈이 장착되어 있어, 원하는 매개변수를 빠르고 정확하게 설정하고, 일관성 있는 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 챔버 디자인의 관점에서, 2300 Versys Kiyo는 전체 직경이 24 인치 인 원통형 원자로 챔버를 가지고 있습니다. 이동 가능한 내부 전극은 흑연 (graphite) 으로 만들어졌으며 전체 챔버에 탁월한 균일성과 정확한 온도 조절을 제공합니다. 챔버 내에서 지속적인 가스 압력을 유지하고 신뢰할 수있는 웨이퍼 균일성 (wafer unifority) 을 보장하는 튜브 장착 벨로우도 있습니다. 이 장치에는 크료 펌프 (Cryo-pump) 가 장착되어 있어 챔버가 진공 레벨 10-6 torr을 달성 할 수 있습니다. 또한 Versys Kiyo는 Fast Shutter Tooling을 제공하는 최신 LAM RESEARCH 장비입니다. 이러한 고급 공구 (advanced tooling) 기술을 통해 최적의 프로세스 조건이 없는 경우에도 사용자는 챔버를 신속하게 종료할 수 있습니다. 빠른 셔터 (shutter) 를 사용하면 다운타임은 크게 줄어들고 프로세스 결과는 일관되게 유지됩니다. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo는 유연하고 신뢰할 수 있으며 예측 가능한 성능을 제공하도록 설계된 종합적인 기계입니다. 정확한 온도 조절 (temperature control) 과 신뢰할 수 있는 압력 모니터링의 조합으로, 사용자는 빠르고 반복 가능한 프로세스 결과를 기대할 수 있습니다. 자동 기능 모니터링, 예측 오류 감지, 다양한 지원/유지 보수 툴 등이 제공됩니다. 이 도구는 다양한 프로세스 레시피 (recipe) 와도 호환되므로 원하는 레시피를 신속하게 선택하고 수정할 수 있습니다. 2300 Versys Kiyo는 하이엔드 애플리케이션을 위해 안전하고 반복 가능한 에칭/애싱 자산을 제공합니다.
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