판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 V2 #293595429
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ID: 293595429
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2002
Plasma processing system, 12"
Etch platform
(4) Exelan Chambers
(4) Gas boxes
Remote power distribution box
3LP EFEM
Vacuum transfer module
Control rack
BROOKS AUTOMATION ATR8 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION MAG7 VTM Robot
(2) FOUPs
Cassette type: 25
No conditioning station
IPX / EPX Pump for TM
Side monitor user interface
Stainless wafer pads
No UPS
No ELB
R-O-G-B Signal tower
ESC Wafer clamping mechanism
ESC Power supply
ESC Hose kit
ESC Barbed facility plate
Wafer life mechanism: Direct drive
O-rings: Fluorosilicon / Viton
ATH 1600 M Turbo pump
Optical emission spectroscopy
Chemraz gate valve
2002 vintage.
LAM RESEARCH 2300 V2 Asher는 특정 재료의 드라이 에칭을 위해 설계된 완전 자동화 된 높은 정확도 에처/애셔입니다. 장치 제조, 반도체 장치 처리, MEMS 생산, 회로 기판 제작 및 기타 대량 생산 프로세스와 같은 응용 분야에 이상적입니다. 에치 깊이가 최대 300 äm에 도달 할 수 있으며, 에칭 정확도는 ± 0.05äm이며, 최대 3000 ° F (1650 ° C) 의 다양한 온도에서 작동 할 수 있습니다. 2300 V2 Asher (V2 Asher) 는 블로우 백 재순환 웨이퍼 카세트 드라이브 장비와 진공 시스템을 갖춘 폐쇄 루프 프로세스 챔버 (closed-loop process chamber) 를 포함하는 정교한 컨트롤러에 의해 구동됩니다. 공정 챔버에는 2 개의 독립적 인 에칭 시스템이 포함되어 있습니다. 첫 번째는 기판을 에칭하는 데, 두 번째는 백사이드 에칭입니다. 또한 오버 헤드 로봇 로케이터 및 자동 초점 소프트웨어가 포함되어 있습니다. 웨이퍼 카세트 드라이브 (wafer cassette drive unit) 는 향상된 처리량을 위해 웨이퍼를 효율적으로 로드/언로드할 수 있습니다. LAM RESEARCH 2300 V2에는 긴급 정지 버튼 (Emergency Stop Button), 연동 보호 (Interlock Protection), 연마 감지 및 여과기, 유해 가스 및 에어로졸이 공정 챔버를 탈출하지 못하도록 강제 공기 제거와 같은 다양한 안전 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 기능은 etcher의 안정적이고 안전한 작동을 보장합니다. 2300 V2는 프로세스 제어 및 소프트웨어가 통합된 완벽한 에칭 솔루션을 제공합니다. 여기에는 필요에 따라 프로그래밍, 모니터링, 조정할 수 있는 강력한 프로세스 도구 및 매개변수 제어 (parameter control) 세트가 포함됩니다. 이를 통해 사용자는 최고의 정확성과 추적 능력으로 프로세스를 최적화 할 수 있습니다. 이 툴은 또한 오픈 소스 스크립팅 언어 (open-source scripting language) 를 통해 다양한 사용자 지정 스크립팅을 수용할 수 있도록 설계되었으며, 이를 통해 자산을 특정 요구 사항에 맞게 수정할 수 있습니다. 결론적으로 LAM RESEARCH 2300 V2는 광범위한 기능과 기능을 갖춘 고급 자동 etcher/asher입니다. 고급 프로세스 제어 (process control) 및 안전 기능 (safety) 과 오픈 소스 스크립팅 언어 (open-source scripting language) 는 안정적이고 정확한 작동을 보장합니다. 온도, 에칭 정확도, 처리량을 통해 대량 생산 및 기타 고정밀 제작 프로세스에 이상적인 선택이 됩니다.
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