판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 V2 Kiyo 45 #9237732

LAM RESEARCH 2300 V2 Kiyo 45는 소규모 반도체 제작에서 대규모 반도체 제작까지 광범위한 응용 분야에서 사용되는 고급 etcher/asher입니다. 습식 에칭에서 플라즈마 에칭까지 다양한 에칭 기술을 수행 할 수 있습니다. 정밀 컴퓨터 비전 시스템 (Computer Vision System) 은 작업의 복잡성과 상관없이 정확하고 반복 가능한 결과를 보장합니다. 또한 효율적인 기후 통제력 (Climate Control) 을 갖추고 있어 가혹한 환경 조건에서 작동 할 수 있습니다. 2300 V2 Kiyo 45는 실리콘, 저마늄, 갈륨 비소 및 구리 기반 합금을 포함한 광범위한 재료를 안전하고 정확하게 처리 할 수 있습니다. 고급 이미징 (Advanced Imaging) 및 결함 감지 시스템 (Defect Detection System) 을 갖춘 Etcher는 매우 정밀하게 복잡한 에칭 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 또한 높은 수준의 자동화 (automation) 를 제공하여 여러 개의 다른 작업 요청을 매우 신속하게 처리하고 처리할 수 있습니다. 이 에처에는 4 개의 자기 단계 (magnetic stage) 와 3 개의 기계식 단계 (mechanical stage) 가 장착되어 있어 큰 기판과 많은 양의 재료를 처리 할 수있는 속도, 정확도 및 제어를 보장합니다. 에처 (etcher) 에는 매우 효율적이고 정확한 빔 프로파일 생성기 (beam profiles generator) 가 포함되어 있어, 에처가 원하는 최종 결과를 얻기 위해 에칭 매개변수를 정확하게 조정할 수 있습니다. 이를 통해 재료 품질이 유지되고 에칭 (etching) 프로세스가 일관되고 균일한 결과를 얻을 수 있습니다. LAM RESEARCH 2300 V2 Kiyo 45는 강력하고 에너지 효율적입니다. 에너지 절약 기능에는 비 피크 에너지 절약 기술 (Off-peak energy saving technology) 이 포함되어 있어 저렴한 비용으로 에처를 실행할 수 있으며, 에칭 챔버에서 최적의 온도를 유지하면서 폐열과 에너지를 최소화하는 지능형 열 관리 시스템 (Intelligent Thermal Management System) 이 있습니다. 또한 여러 기판을 동시에 에칭할 수있는 멀티 존 (multi-zone) 에칭 (etching) 기술에 의존하여 프로세스 처리량을 크게 증가시킵니다. 또한 2300 V2 Kiyo 45는 접근성을 고려하여 설계되었습니다. 인체 공학적, 직관적 인 인터페이스 (interface) 는 쉽게 작동하므로 경험이 부족한 사용자가 밧줄을 빨리 배울 수 있습니다. 또한 상세한 통신 및 감사 (audit) 기능을 갖추고 있어 모니터링과 진단을 통해 작업을 효율적으로 수행할 수 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 LAM RESEARCH 2300 V2 Kiyo 45는 광범위한 어플리케이션에 이상적인 고급 에처/애셔가 됩니다.