판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x #9249855

LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x는 반도체 제조 공정에 사용되는 최첨단 에처/애셔입니다. 생산성, 생산성, 품질이 향상되도록 설계된 첨단 기술과 기능을 제공합니다. 그것 은 "웨이퍼 '," 베젤' 및 기타 반도체 성분 들 을 에치· 재화 하는 데 사용 할 수 있는 다목적 기계 이다. 2300 Kiyo3x에는 폐쇄형 루프 IPM/C (Integrated Process Monitoring and Control) 장비가 장착되어 있어 제품 반복 가능성과 처리량을 최적화할 수 있습니다. 이 기계는 또한 정밀한 온도 조절, 전력 모니터링 및 RF 에너지 커플 링 (coupling) 을 제공하여 프로세스가 각 특정 웨이퍼에 맞게 최적화되도록 합니다. LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x에는 정전식 센서 어레이를 사용하여 웨이퍼 클러스터를 실시간으로 감지하고 모니터링하는 고급 CRD (in-situ Cluster Removal Detection) 시스템이 장착되어 있습니다. 2300 Kiyo3x에는 통합 대량 가스 전달 머신 (bulk gas delivery machine) 이 장착 된 고성능 이진 가스 장치 (binary gas unit) 가 포함되어 있어 정확한 가스 제어 및 혼합 가스 전달이 가능합니다. 또한, 이 기계는 가스 흐름 중단이 최소화되는 고속 가스 스위칭 도구를 갖추고 있으며, 이를 통해 처리량이 높고 교차 오염이 적습니다. 이 자산에는 의도하지 않은 프로세스 압력 스파이크, 고전류 플라즈마 보호, 가청성 (audible) 및 시각적 누출 탐지기 등 다양한 안전 기능 (예: 저전력 부하 잠금) 이 장착되어 있습니다. LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x는 RIE (Reactive-Ion-Etcher), AE (Acid-Etch) 및 Asher의 세 가지 기본 모듈로 나뉩니다. RIE 모델은 저항, 필름 및 폴리머를 제거하는 데 사용되는 고급 진공 플라즈마 기반 프로세스입니다. AE 장비는 패턴을 마스크에서 웨이퍼로 전송하는 데 사용됩니다. 애셔 (Asher) 는 에칭 프로세스 후에도 남아있는 잔기를 청소하기위한 후처리 에처입니다. 2300 Kiyo3x 는 각 애플리케이션에 필요한 툴의 스케줄링 및 관리를 지원하는 포괄적인 툴 관리 (Tool Management) 패키지를 제공합니다. 이 시스템은 데이터 관리 및 공유 기능을 향상시켜 설치 시간과 운영 중단 시간을 줄여줍니다. 또한 LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x는 프로세스 데이터를 모니터링하고 챔버 성능에 대한 자세한 분석을 통해 프로세스 지원을 제공합니다. 이는 지속적으로 높은 수율을 보장하는 데 도움이됩니다. 결론적으로 2300 Kiyo3x는 최신 기술과 기능을 제공하는 고급 etcher/asher 장치입니다. 탁월한 프로세스 제어 및 모니터링, 높은 처리량, 낮은 오염, 전반적인 생산성 향상 등의 이점을 제공합니다. 이러한 모든 기능을 통해 LAM RESEARCH 2300 Kiyo3x는 모든 반도체 어플리케이션에 적합한 선택이 가능합니다.