판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Kiyo #174756
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판매
ID: 174756
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2006
Metal dry etch system, 12"
Type of Loadport: SMIF
Number of Process Chamber: (2) Metal Etch & (2) MWAVE STRPR
Configuration of SMIF:
Signal Tower: 3-colors
Number of Loadport: 3
Parts No. of Loadport: 799-901175-004
Number of ATM Robot: 1
Parts No. of ATM Robot: 121668
Buffer Station: 25 slots, 2 Buffer Station
Aligner: 1 Aligner
Configuration of Transfer Chamber
Number of Loadlock: 2 LL / 4 Slot Cool Chamber
Model of Transfer Robot: Magnatran7 / Borrks
Parts No. of Lock Valve: 853-007859-005 / 4ea
TM Pressure Gauge: HPS Series907 / MKS
TM Pressure Control: MKS Series640
LL Pressure Gauge: HASTING
Configuration of Etch Chamber:
PM2:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of Etch Chamber:
PM3:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of MW Chamber:
PM1:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of MW Chamber:
PM4:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of Gas Panel, Etch Chamber:
Type of Gas Panel: IGS Bolck Type
No of Gas Channel: 8 Channel
Model of MFC: UFG8561
PM2:
BCL3 300sccm
N2 50sccm
Ar 500sccm
O2 1slm
CH4 50sccm
SF6 200sccm
Cl2 300sccm
CHF3 50sccm
PM3:
BCL3 301sccm
N2 51sccm
Ar 501sccm
O2 2slm
CH4 51sccm
SF6 201sccm
Cl2 301sccm
CHF3 51sccm
Gas Box 1.25C Seal Type
TMP Axiden ATH2300M
Micro Wave Power Gen MKS FI20160-3
RF Generator AE APEX-1513 and AE RFDS-1213
Chiller Unisem RCS 2500A
Power: 208VAC 3ph 4Wires 400AMPS 50/60Hz
2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyo는 정밀성, 신뢰성 및 유연성을 위해 설계된 혁신적인 etcher/asher 장비입니다. 이 고급 etcher/asher 시스템은 다양한 크기와 구성의 장치를 지원하도록 설계되었습니다. 그것의 아키텍처는 광범위한 기판 재료를 에칭 (etching) 하고 재 (ashing) 할 때 정확한 공정 제어 및 반복성을 가능하게한다. 2300 Kiyo 장치는 지능형 알고리즘을 사용하여 각 기판 유형에 대한 최적 에치 (optimum etch) 및 애싱 (ashing) 매개변수를 계산하여 매번 일관된 결과를 보장합니다. 화학 기계 평면 화 (CMP), 화학 기계 연마 (CMP), 화학 에칭 (ISO 에치), 깊은 반응성 이온 에칭 (DRIE) 및 반응성 이온 에칭 (RIE) 프로세스를 수행하도록 설계되었습니다. 또한 기계는 정밀 뒷면 청소가 가능합니다. LAM RESEARCH 2300 Kiyo 도구는 가스 흐름 분석 기능, 압력 범위에 대한 온도 조절, 서셉터 튜닝, 기판 온도 제어 모드 등 여러 가지 고급 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 연산자가 에셋을 사용자 정의하고 조정하여 원하는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 통합 스마트 프로세스 제어 (Smart Process Control) 를 통해 모델은 관련 프로세스 매개변수의 자동 추적 및 조정을 가능하게하며, 궁극적으로 재현 가능한 결과를 산출합니다. 2300 Kiyo 장비에는 시스템 제어 및 데이터 수집이 용이한 직관적인 소프트웨어도 제공됩니다. 이 장치의 GUI 및 소프트웨어는 사용자에게 완전한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 환경을 제공하여 재현이 가능하고 안정적인 프로세스 성능을 제공합니다. 또한 사용자는 직접, 멀티 사이트 접속 (Multi-Site Connection) 을 통해 프로세스 데이터를 실시간으로 모니터링하고 분석할 수 있으며, 사용자가 신속하게 의사 결정을 내릴 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH 2300 Kiyo etcher/asher 도구는 광범위한 기판을 에칭 및 재싱하기위한 탁월한 신뢰성과 성능을 제공합니다. 고급 기능과 직관적인 소프트웨어 (Software) 는 쉽고 효율적인 사용자 환경을 제공하므로, 사용자가 언제든지 반복 가능하고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 이러한 기능과 기능을 결합하여 2300 키요 (Kiyo) 자산은 반도체 장치 제조를위한 종합적인 에칭 및 애싱 솔루션을 제공합니다.
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