판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Exelan #9003988
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판매
ID: 9003988
Flex etch system, 8"
(3) Chambers
2300 Ver 2.0 Mainframe
Robot CDM
Cable Lengths (TM to Sub Panel) : 100ft
Loaders included
Cassette Interface:
(3x) Open Cassette
25 Slot Input Buffer Station
User Interface:
Front Mount
Side
(3x) 2300 Exelan Flex LEAP Etch Chambers:
Kalrez O-rings
PM ISO Valve (Chemraz Rocker V)
Dual Chiller
New Heater for IGS Gases
Cable Lengths (EMO/Gateway) : 50ft
Quick Clean Kit
Service Tool Kit
Gas Box:
(9) Gas line Config (IGS)
(1) Additional Gas line IGS)
Heated Gas line Package
Gas Interface Box (Covers 3 Process Modules)
Gas Box Configuration (MFC: HORIBA STEC Z300)
Line# - MFC Type - Gas - Size (sccm)
1 SZ313 C4F8 50
2 SZ313 NSR 50
3 SZ313 Ar 1000
4 SZ313 O2 200
5 SZ313 CO 200
6 SZ313 CF4 200
7 SZ313 H2 500
8 SZ313 CH2F2 50
9 SZ313 O2 3000
10 SZ313 N2 1000
11 SZ313 CHF3 100
12 SZ313 O2 20
RPDB for Dual Channel
Pump Exhaust Dilution Box
Options:
System UPS Support
GFI CBs
System Calibration & Alignment Kit
Signal Light Tower (R-A-G-B-C)
200mm Signal Lamp Tower
Mini Environment Air Intake
Software:
APC Recipe Tuning
2nd HSMS(Fab Common) Support
De-installed
2007 vintage.
LAM RESEARCH 2300 엑셀란 (Exelan) 은 실리콘 및 유리와 같은 재료 표면에 고품질의 복잡한 패턴을 만드는 데 사용되는 고급 고밀도 플라즈마 에칭 장비입니다. 이 시스템은 에칭 (etching) 프로세스를 정확하게 제어할 수 있도록 설계되었으며, 가장자리 효과를 최소화하면서 매우 복잡한 패턴을 만들 수 있습니다. 엑셀란 (Exelan) 장치에는 고급 이미징 머신과 통합 패턴 제어가 장착되어 있어 정확한 패턴 제어가 가능합니다. 이미징 도구 (Imaging Tool) 는 기판의 이미지를 캡처하며, 이어서 에칭의 위치와 제거할 재료의 양을 모두 제어합니다. 에셋에는 클로즈드 루프 (closed-loop) 전원 조절기 (power regulator) 도 장착되어 있어, 에칭 중 전원 출력을 정확하게 조정할 수 있으며, 원하는 매개변수 내에서 재료가 에칭되도록 합니다. 이 장비는 소프트웨어를 통해 프로그래밍되므로 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 에치 (etch) 패턴을 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 고급 쿼리 언어 (query language) 를 통해 데이터를 자동으로 평가할 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 에치 패턴 (etch pattern) 을 신속하게 분석하고 에칭 프로세스를 실시간으로 조정할 수 있습니다. 엑셀란 (Exelan) 장치는 반도체 생산에 사용하도록 설계되었으며, 실리콘 및 유리 기판에서 복잡한 패턴을 만드는 데 가장 높은 수준의 정확도를 제공합니다. 이 기계는 신뢰성이 매우 높도록 설계되었으며, 다운타임을 최소화하면서 장애 발생률이 낮습니다. 고급 이미징 도구, 정밀 전원 제어 (Precise Power Control), 고급 쿼리 언어 (Advanced Query Language) 를 통해 정확한 에칭을 빠르고 정확하게 생성할 수 있습니다.
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