판매용 중고 LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex FX #9359417

LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex FX는 높은 처리량 제조를 위해 설계된 고급 에치/애셔 장비입니다. 광전자, 반도체, MEMS, optoelectronics 및 기타 나노 구조와 같은 광범위한 중요한 응용 프로그램에 대한 최대 유연성을 제공합니다. 이 비용 효율적인 시스템은 다양한 재료의 여러 계층을 일관된 고수율 (HI) 로 에칭하는 데 사용될 수 있습니다. 또한, 독특한 디자인은 에칭 (etching) 과 뛰어난 클리닝 성능을 제공합니다. 2300 Exelan Flex FX는 반복 가능한, 균일 한 에칭, 높은 배치 처리량을 요구하는 어플리케이션에 뛰어난 프로세스 유연성을 제공합니다. 동적 가스 흐름 (Gas Flow) 프로세스를 통해 동시에 최대 4 개의 서로 다른 재료 레이어를 가져올 수 있습니다. 다중 레이어 에칭 지원 기능은 또한 다른 재료의 동시 패턴화 및 에칭을 허용합니다. 이 장치의 고정밀도 및 속도는 복잡한 패턴에 대한 처리 시간 단축, 주기 시간 단축, 에치 (etch) 품질의 균일성 향상, 수율 향상을 촉진합니다. etch 소스의 관점에서 LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex FX는 다양한 유형의 에칭 응용 프로그램을 지원하기 위해 HEDES (High Energy Density Etch Source) 및 다양한 프로세스 가스와 함께 제공됩니다. HEDES는 높은 에너지를 생성하여 비등방성이 높은 빠른 에칭 속도를 허용합니다. 또한 고급 열 제어 장치 (Advanced Thermal Control Machine) 가 제공되어 반복 가능한 공정을 위해 높은 온도를 보다 잘 제어합니다. 2300 Exelan Flex FX (Exelan Flex FX) 에는 우발적 전력 부족으로 인한 안전한 작동과 셀 손상을 방지하는 고급 안전 기능이 포함되어 있습니다. 또한 고급 모니터링 기능을 통해 개별 셀 성능을 실시간으로 관찰하고 모니터링할 수 있습니다. LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex FX에는 다양한 에칭 계층에서 반복 검증, 안정적인 에치 안정성을 제공하는 고급 진단 기능도 포함되어 있습니다. 또한, 독특한 챔버 디자인은 이동식 챔버 베이스를 갖추고 있어 손쉬운 청소 및 유지 보수가 가능합니다. 또한 강력한 적응 제어 시스템 (Adaptive Control System) 이 장착되어 있어 프로세스 정확도, 재현성이 뛰어나고, 부품 구성의 변화에 유연하게 대처할 수 있습니다. 전체적으로 2300 Exelan Flex FX는 광범위한 크리티컬 어플리케이션에 최대 유연성과 안정적인 에칭 성능을 제공하도록 설계된 뛰어난 에처/애셔 (etcher/asher) 툴입니다. 탁월한 성능, 정밀도, 안전 기능을 제공하며, 우수한 수율과 강력한 프로세스 효율성을 제공합니다.