판매용 중고 LAM RESEARCH 01-W1530B01C #293759117

LAM RESEARCH 01-W1530B01C는 반도체 처리 응용 프로그램에서 탁월한 정확성과 효율성을 제공하도록 설계된 최첨단 etcher/asher 도구입니다. 이 고급 장비는 반도체 산업을위한 장비 및 서비스 제공 업체 인 LAM RESEARCH Corporation (LAM RESEARCH Corporation) 에서 제조합니다. 01-W1530B01C 모델은 LAM의 Etch 제품 라인의 일부이며, 반도체 제조에서 에칭 및 애싱 프로세스를 위해 특별히 설계된 다양한 도구를 포함합니다. LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher의 주요 기능 중 하나는 정교한 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 으로, 정밀도 및 제어가 높은 다양한 공정 가스를 제공 할 수 있습니다. 이 장치 는 "가스 '의 흐름 속도, 압력, 조성물 을 정확 하게 조작 하여, 원하는" 에칭' 과 "애싱 '결과 를 달성 하기 위한 최적 의 프로세스 조건 을 보장 해 준다. 이 도구에는 고급 가스 흐름 제어 밸브 (gas flow control valve) 와 질량 흐름 컨트롤러 (mass flow controller) 가 장착되어 있어 처리 중에 정확하고 반복 가능한 가스 전달이 가능합니다. 01-W1530B01C 모델에는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에 대한 제어 환경을 제공하는 최첨단 진공 챔버 머신도 장착되어 있습니다. 이 방은 높은 수준의 진공압을 유지하도록 설계되었으며, 이는 균일 한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 결과를 달성하는 데 필수적입니다. 이 챔버 (Chamber) 는 화학 부식 및 오염에 강한 고품질 재료로 만들어져 가공 환경의 순도 (Purity) 와 무결성 (Integrity) 을 보장합니다. LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher의 또 다른 주요 특징은 고급 플라즈마 생성 도구이며, 에칭 및 애싱 공정을 위해 반응성 종의 플라즈마를 만드는 데 사용됩니다. 자산에는 고출력 RF (Radio Frequency) 생성기와 매칭 네트워크가 장착되어 있는데, 이 네트워크는 가공 챔버 내에서 플라즈마 방전을 생성하고 유지하는 데 사용됩니다. "플라즈마 '는 RF 동력 을 공정" 가스' 에 적용 시켜서 만들어지며, 그 결과 "가스 '분자 들 이 분리 되고" 에칭' 과 "애싱 '공정 에 필수적 인 반응성 종 이 형성 된다. 01-W1530B01C 모델에는 고효율 웨이퍼 처리 (Wafer Handling) 모델도 장착되어 있는데, 이 모델은 다양한 웨이퍼 크기와 처리 유형을 수용하도록 설계되었습니다. 장비는 캐리어에 단일 웨이퍼 (wafer) 또는 다중 웨이퍼 (wafer) 를 수용할 수 있으므로 처리량이 높습니다. 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System) 은 프로세싱 챔버 내의 웨이퍼를 정확하게 정렬하고 배치하도록 설계되었으며, 이는 균일하고 반복 가능한 처리 결과를 달성하는 데 필수적입니다. 결론적으로 LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher는 반도체 제조에서 에칭 및 애싱 프로세스에 대한 뛰어난 정밀도, 효율성 및 제어를 제공하는 최첨단 도구입니다. 고급 가스 전달 장치 (gas delivery unit), 진공 챔버 머신 (vacuum chamber machine), 플라즈마 생성 도구 (plasma generation tool) 및 웨이퍼 처리 자산 (wafer handling asset) 을 갖춘 이 도구는 반도체 프로세싱에서 광범위한 응용 분야에 적합합니다. 고품질 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 결과를 얻고자 하는 반도체 제조업체에 귀중한 자산이다.