판매용 중고 INTELVAC Electron beam evaporation system #293809972

INTELVAC Electron 빔 증발 장비는 다양한 재료를 기판에 정확하게 균일하게 코팅하도록 설계된 고성능 박막 증착 도구입니다. 이 시스템은 전자 빔 (electron beam) 기술을 사용하여 고체 소스 물질을 기화시켜 기판 표면에 박막 (thin film) 으로 증착시킵니다. INTELVAC 장치는 박막 증착, 에칭, 애싱 (ashing) 과 같은 응용 분야를 위해 반도체, 광학 및 전자 산업에서 널리 사용됩니다. 전자 빔 증발기 (Electron beam evaporation machine) 의 핵심은 전자 빔 소스이며, 소스 물질을 함유 한 도가니 (crucible) 에 초점을 맞춘 고 에너지 전자 빔을 생성합니다. 전자 "빔 '이 원천 물질 과 상호작용 할 때, 그것 을 증기 시켜서, 기질 을 향하여 향하는" 플럭스' 의 증기 를 만든다. 이 증기 증착 과정 을 통해 증착 되는 "박막 '의 증착 속도, 두께, 조성 을 정확 하게 제어 할 수 있다. INTELVAC 도구의 주요 특징 중 하나는 고급 제어 자산 (Advanced Control Asset) 으로, 강착 속도, 기판 온도, 진공 압력 등의 강착 프로세스 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 뛰어난 필름 품질과 접착력으로 매우 균일하고 재현 가능한 박막 코팅을 달성 할 수 있습니다. 이 모델에는 박막 증착 공정을 위해 깨끗하고 오염이없는 환경을 제공하는 고진공 챔버 (high-vacuum chamber) 가 장착되어 있습니다. 방은 퇴적된 박막 (thin film) 의 품질에 영향을 줄 수있는 불순물의 존재를 최소화하기 위해 초고진공 (ultra-high vacuum) 수준으로 대피합니다. 또한, 챔버에는 쿼츠 크리스탈 마이크로 밸런스 (quartz crystal microbalances) 및 필름 두께 모니터 (film thickness monitor) 와 같은 현장 모니터링 및 제어 도구가 장착되어 정확한 증착 제어 및 실시간 프로세스 모니터링을 보장합니다. INTELVAC 전자 빔 증발 장비 (INTELVAC Electron Beam Evaporation Equipment) 는 박막 응용 분야에서 일반적으로 사용되는 금속, 산화물, 질화물 및 기타 재료를 포함하여 증착을위한 다양한 재료를 수용 할 수있는 다재다능한 도구입니다. 이 시스템은 다양한 기판 크기와 모양을 지원하므로 다양한 유형의 기판을 유연하게 처리할 수 있습니다 (영문). 에칭 및 애싱 응용 프로그램의 경우, 이 장치에는 반응성 가스 입구 시스템 (reactive gas inlet system) 및 플라즈마 소스 (plasma source) 와 같은 추가 구성 요소가 장착되어 플라즈마 보조 프로세스를 사용할 수 있습니다. 이를 통해 기판 서피스 (Substrate Surface) 에서 재료를 선택적으로 제거하거나 기판 서피스 특성을 수정하여 특정 기능을 달성 할 수 있습니다. 전반적으로, 전자 빔 증발기 (Electron beam evaporation machine) 는 광범위한 산업에서 박막 증착, 에칭 및 애싱 응용을위한 매우 유능하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 첨단 기능, 정확한 제어 기능, 다용도 (versitility) 를 통해 우수한 재현성과 신뢰성을 지닌 고품질의 박막 코팅 (Thin Film Coating) 을 구현하려는 연구원과 업계 전문가들에게 귀중한 툴이 됩니다.